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透明导电膜、带透明导电膜的基板及光电转换元件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202480013806.6
申请日
:
2024-02-06
公开(公告)号
:
CN120752709A
公开(公告)日
:
2025-10-03
发明(设计)人
:
鲤田崇
斋均
松井卓矢
申请人
:
国立研究开发法人产业技术综合研究所
申请人地址
:
日本
IPC主分类号
:
H01B5/14
IPC分类号
:
H10F77/20
H10F10/166
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
吕琳;朴秀玉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-24
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01B 5/14申请日:20240206
2025-10-03
公开
公开
共 50 条
[1]
透明导电膜的制造方法及透明导电膜、透明导电基板以及使用有透明导电基板的器件
[P].
行延雅也
论文数:
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行延雅也
;
大塚良广
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大塚良广
.
中国专利
:CN102232232B
,2011-11-02
[2]
透明导电膜的制造方法及透明导电膜、使用该透明导电膜的元件、透明导电基板以及使用该透明导电基板的器件
[P].
行延雅也
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行延雅也
;
村山勇树
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村山勇树
;
永野崇仁
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永野崇仁
;
大塚良广
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大塚良广
.
中国专利
:CN102598160A
,2012-07-18
[3]
透明导电膜及其制造方法、元件、透明导电基板及其器件
[P].
行延雅也
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行延雅也
;
永野崇仁
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永野崇仁
;
大塚良广
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大塚良广
.
中国专利
:CN102763174B
,2014-08-27
[4]
氧化物透明导电膜、光电转换元件以及光电转换元件的制造方法
[P].
阿部能之
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阿部能之
;
山野边康德
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山野边康德
;
和气理一郎
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和气理一郎
;
桑原正和
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桑原正和
.
中国专利
:CN107615494B
,2018-01-19
[5]
带透明导电膜的基板的制造方法、带透明导电膜的基板的制造装置及带透明导电膜的基板
[P].
大野幸亮
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大野幸亮
;
高桥明久
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高桥明久
;
白井雅纪
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白井雅纪
;
小林大士
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小林大士
.
中国专利
:CN109642307A
,2019-04-16
[6]
带透明导电膜的基板
[P].
和田正纪
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和田正纪
;
柏谷健
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柏谷健
;
平尾彻
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平尾彻
.
中国专利
:CN107211506B
,2017-09-26
[7]
透明导电膜
[P].
小野泽豊
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小野泽豊
;
仓田雄一
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仓田雄一
.
中国专利
:CN102369108B
,2012-03-07
[8]
透明导电膜的制造方法、透明导电膜的制造装置、溅射靶及透明导电膜
[P].
汤川富之
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汤川富之
;
武井応树
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武井応树
;
小林大士
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小林大士
;
赤松泰彦
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赤松泰彦
;
清田淳也
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清田淳也
;
增泽健二
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增泽健二
;
石桥晓
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石桥晓
.
中国专利
:CN104213085A
,2014-12-17
[9]
透明导电膜的制造方法、透明导电膜的制造装置、溅射靶及透明导电膜
[P].
汤川富之
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汤川富之
;
武井応树
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武井応树
;
小林大士
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小林大士
;
赤松泰彦
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赤松泰彦
;
清田淳也
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清田淳也
;
增泽健二
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增泽健二
;
石桥晓
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石桥晓
.
中国专利
:CN102666909A
,2012-09-12
[10]
透明导电膜
[P].
清村贵利
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清村贵利
;
间宫周雄
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间宫周雄
;
工藤一良
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工藤一良
;
辻稔夫
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辻稔夫
;
齐藤笃志
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齐藤笃志
.
中国专利
:CN101023499A
,2007-08-22
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