一种易解理氧化镓晶片化学机械抛光工艺、抛光液及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111633445.X

申请日：

2021-12-29

公开(公告)号：

CN114231182A

公开(公告)日：

2022-03-25

发明(设计)人：

周海蒋网徐亚萌任相璞计健

申请人：

申请人地址：

224051 江苏省盐城市亭湖区希望大道中路1号

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

B24B3700

代理机构：

盐城易动专利代理事务所(特殊普通合伙) 32613

代理人：

王宗艺

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-25	公开	公开
2022-04-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20211229

共 50 条

[1]

氧化镓晶片抗解理抛光液及其制备方法 [P].

周海 ;

徐晓明 ;

龚凯 .

中国专利 :CN105153943B ,2015-12-16

[2]

一种铜化学机械抛光液及其应用和化学机械抛光方法 [P].

卞鹏程 ;

崔晓坤 ;

王庆伟 .

中国专利 :CN114958206B ,2024-02-02

[3]

一种碳化硅化学机械抛光用的抛光液及其制备方法 [P].

倪自丰 ;

滕康 ;

陈国美 ;

白亚雯 .

中国专利 :CN107129762A ,2017-09-05

[4]

化学机械抛光液 [P].

王良咏 ;

宋志棠 ;

刘卫丽 ;

刘波 ;

钟旻 ;

何敖东 .

中国专利 :CN102690604A ,2012-09-26

[5]

氮化镓化学机械抛光液及其制备方法 [P].

王永光 ;

钮市伟 ;

寇清明 ;

陈瑶 ;

赵栋 ;

朱玉广 ;

刘卫卫 .

中国专利 :CN110205034A ,2019-09-06

[6]

一种化学机械抛光半导体晶片用的抛光液 [P].

康仁科 ;

李岩 ;

高航 ;

郭东明 .

中国专利 :CN101235255A ,2008-08-06

[7]

一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液及其应用 [P].

张楷亮 ;

尹立国 ;

王芳 ;

韦晓莹 ;

苗银萍 .

中国专利 :CN102127372A ,2011-07-20

[8]

一种化学机械抛光液 [P].

李守田 ;

尹先升 ;

贾长征 ;

王雨春 .

中国专利 :CN109251671A ,2019-01-22

[9]

一种化学机械抛光液 [P].

刘卫丽 ;

宋志棠 .

中国专利 :CN104592896A ,2015-05-06

[10]

化学机械抛光液 [P].

赵铁均 ;

张延风 ;

杜新蕊 .

中国专利 :CN118813141A ,2024-10-22

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