一种碳化硅化学机械抛光用的抛光液及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710334987.4

申请日：

2017-05-12

公开(公告)号：

CN107129762A

公开(公告)日：

2017-09-05

发明(设计)人：

倪自丰滕康陈国美白亚雯

申请人：

申请人地址：

214122 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

H01L21306

代理机构：

无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104

代理人：

殷红梅;张仕婷

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-09-05	公开	公开
2020-01-17	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C09G 1/02 申请公布日:20170905
2017-09-29	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101750787796 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2017103349874 申请日:20170512

共 50 条

[1]

一种用于碳化硅化学机械抛光的抛光液 [P].

王家雄 .

中国专利 :CN111234705A ,2020-06-05

[2]

一种碳化硅衬管的化学机械抛光用抛光液及其制备方法和用途 [P].

安俊雪 ;

余先东 .

中国专利 :CN119931507A ,2025-05-06

[3]

一种用于碳化硅的化学机械抛光液及其制备方法 [P].

张辰彬 ;

罗光红 ;

张育玮 ;

刘洋 .

中国专利 :CN120574527A ,2025-09-02

[4]

化学机械抛光液及其应用 [P].

赵东旭 .

中国专利 :CN113249035B ,2024-05-24

[5]

化学机械抛光液及其应用 [P].

赵东旭 .

中国专利 :CN113249035A ,2021-08-13

[6]

一种铜化学机械抛光液及其应用和化学机械抛光方法 [P].

卞鹏程 ;

崔晓坤 ;

王庆伟 .

中国专利 :CN114958206B ,2024-02-02

[7]

一种铜化学机械抛光液及其制备方法 [P].

李涛 ;

孙大陟 .

中国专利 :CN110951402A ,2020-04-03

[8]

一种碳化硅晶圆抛光用的抛光液及其制备方法与抛光方法 [P].

王丹 ;

高文琳 ;

刘福超 .

中国专利 :CN118085731B ,2024-07-19

[9]

用于碳化硅晶片硅表面化学机械抛光的抛光液及抛光方法 [P].

孙韬 ;

王汉强 ;

步峥峥 ;

王雪含 .

中国专利 :CN113881349A ,2022-01-04

[10]

一种碳化硅晶圆抛光用的抛光液及其制备方法与抛光方法 [P].

王丹 ;

高文琳 ;

刘福超 .

中国专利 :CN118085731A ,2024-05-28

← 1 2 3 4 5 →