一种碳化硅衬管的化学机械抛光用抛光液及其制备方法和用途

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510015487.9

申请日：

2025-01-06

公开(公告)号：

CN119931507A

公开(公告)日：

2025-05-06

发明(设计)人：

安俊雪余先东

申请人：

杭州博来纳润电子材料有限公司

申请人地址：

311200 浙江省杭州市萧山区宁围街道平澜路2118号浙江大学杭州国际科创中心水博园区B10-606室-5

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

B24B37/04

代理机构：

上海光华专利事务所(普通合伙) 31219

代理人：

高燕;许亦琳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-06	公开	公开
2025-05-23	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20250106

共 50 条

[1]

一种碳化硅化学机械抛光用的抛光液及其制备方法 [P].

倪自丰 ;

滕康 ;

陈国美 ;

白亚雯 .

中国专利 :CN107129762A ,2017-09-05

[2]

一种用于碳化硅化学机械抛光的抛光液 [P].

王家雄 .

中国专利 :CN111234705A ,2020-06-05

[3]

一种化学机械抛光用纳米抛光液 [P].

张楷亮 ;

冯玉林 ;

王芳 ;

任君 ;

孙阔 .

中国专利 :CN103146307B ,2013-06-12

[4]

一种用于碳化硅的化学机械抛光液及其制备方法 [P].

张辰彬 ;

罗光红 ;

张育玮 ;

刘洋 .

中国专利 :CN120574527A ,2025-09-02

[5]

一种铜化学机械抛光液及其应用和化学机械抛光方法 [P].

卞鹏程 ;

崔晓坤 ;

王庆伟 .

中国专利 :CN114958206B ,2024-02-02

[6]

水性抛光液和化学机械抛光方法 [P].

加藤知夫 .

中国专利 :CN1939995A ,2007-04-04

[7]

一种化学机械抛光液和化学机械抛光方法 [P].

张力飞 ;

王同庆 ;

王淑慧 ;

路新春 .

中国专利 :CN116606595B ,2025-05-16

[8]

一种用于化学机械抛光的抛光液及化学机械抛光方法 [P].

张力飞 ;

王同庆 ;

路新春 .

中国专利 :CN116240550B ,2025-04-15

[9]

一种化学机械抛光用液 [P].

赵明贵 .

中国专利 :CN104371548A ,2015-02-25

[10]

一种化学机械抛光用液 [P].

谭志恒 .

中国专利 :CN111040638A ,2020-04-21

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