掩模表面的高度方向位置测定方法、曝光装置以及曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580027407.2

申请日：

2005-12-21

公开(公告)号：

CN101002306A

公开(公告)日：

2007-07-18

发明(设计)人：

平柳德行田中庆一

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G03B2100 G01B1100 G03F720

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

左一平

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-09-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-08-04	专利权的视为放弃	专利权的视为放弃号牌文件类型代码:1606 号牌文件序号:101004400974 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2005800274072 放弃生效日:20070718
2007-07-18	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光装置以及曝光方法 [P].

西健尔 ;

太田和哉 .

中国专利 :CN1244019C ,2001-11-21

[2]

曝光装置以及曝光方法 [P].

西健尔 ;

太田和哉 .

中国专利 :CN1144263C ,2000-01-19

[3]

曝光装置以及曝光方法 [P].

西健尔 ;

太田和哉 .

中国专利 :CN1808281A ,2006-07-26

[4]

曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法 [P].

奥山隆志 .

日本专利 :CN118689042A ,2024-09-24

[5]

曝光装置、表面位置调节单元、掩模和器件制造方法 [P].

木田佳己 ;

宫井恒夫 .

中国专利 :CN1332470A ,2002-01-23

[6]

曝光方法、曝光装置以及维修方法 [P].

中野胜志 .

中国专利 :CN102109773A ,2011-06-29

[7]

曝光方法、曝光装置以及光掩模 [P].

畠中公荣 .

中国专利 :CN103513516B ,2014-01-15

[8]

曝光装置、曝光方法以及装置制造方法 [P].

竹中务 ;

三岛和彦 .

中国专利 :CN104516213B ,2015-04-15

[9]

对焦测试掩模、对焦测定方法和曝光装置 [P].

近藤信二郎 .

中国专利 :CN1813338A ,2006-08-02

[10]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN106873316A ,2017-06-20

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