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光掩模制造方法、描绘装置、光掩模检查方法及检查装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200910209367.3
申请日：
2009-11-04
公开(公告)号：
CN101738851B
公开(公告)日：
2010-06-16
发明(设计)人：
池边寿美
田中敏幸
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F182
IPC分类号：
G03F184
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
黄纶伟
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2012-10-10 | 授权 | 授权 |
| 2010-09-01 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101005272566 IPC(主分类):G03F 1/14 专利申请号:2009102093673 申请日:20091104 |
| 2010-06-16 | 公开 | 公开 |
| 2016-10-19 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101740343390 IPC(主分类):G03F 1/82 专利号:ZL2009102093673 变更事项:专利权人 变更前:HOYA株式会社 变更后:HOYA株式会社 变更事项:地址 变更前:日本东京都 变更后:日本东京都160-8347新宿区西新宿六丁目10番1号 |