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图案检查方法、光掩模检查装置、光掩模的制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011021526.X
申请日：
2020-09-25
公开(公告)号：
CN112578631A
公开(公告)日：
2021-03-30
发明(设计)人：
尾崎太一
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F184
IPC分类号：
G03F144
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
朱丽娟;崔成哲
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-03-30 公开 公开
2022-08-05 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/84 申请日:20200925
共 50 条
[1]
图案检查方法、光掩模检查装置、光掩模的制造方法 [P]. 
尾崎太一 .
日本专利 :CN112578631B ,2025-06-20
[2]
光掩模检查方法、光掩模制造方法及光掩模检查装置 [P]. 
剑持大介 .
中国专利 :CN109307980A ,2019-02-05
[3]
光掩模的图案检查装置和图案检查方法 [P]. 
堀川清史 .
日本专利 :CN119493334A ,2025-02-21
[4]
光掩模制造方法、描绘装置、光掩模检查方法及检查装置 [P]. 
池边寿美 ;
田中敏幸 .
中国专利 :CN101738851B ,2010-06-16
[5]
图案缺陷检查装置、图案缺陷检查方法及光掩模的制造方法 [P]. 
山口升 .
中国专利 :CN101046624B ,2007-10-03
[6]
光掩模缺陷检查装置及光掩模缺陷检查方法 [P]. 
张旺 ;
徐佳 ;
宋晓辉 .
中国专利 :CN118425043A ,2024-08-02
[7]
光掩模缺陷检查装置及光掩模缺陷检查方法 [P]. 
张旺 ;
徐佳 ;
宋晓辉 .
中国专利 :CN118425043B ,2025-01-21
[8]
光掩模的制造方法、检查方法和检查装置 [P]. 
剑持大介 .
中国专利 :CN110058488A ,2019-07-26
[9]
光掩模及其检查装置、方法、以及制造方法、图案转写方法 [P]. 
吉田光一郎 .
中国专利 :CN101446753B ,2009-06-03
[10]
基板保持装置、描绘装置、光掩模检查装置、光掩模制造方法 [P]. 
剑持大介 .
中国专利 :CN106980225A ,2017-07-25
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