镍合金溅射靶、Ni合金薄膜及镍硅化物膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180014500.5

申请日：

2011-03-18

公开(公告)号：

CN102803550B

公开(公告)日：

2012-11-28

发明(设计)人：

山越康广大桥一允

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C22C1903 C23C1414

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

王海川;穆德骏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-10	授权	授权
2017-04-19	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101750234935 IPC(主分类):C23C 14/34 专利号:ZL2011800145005 变更事项:专利权人变更前:吉坤日矿日石金属株式会社变更后:捷客斯金属株式会社变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本东京
2013-01-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101383322298 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2011800145005 申请日:20110318
2012-11-28	公开	公开

共 50 条

[1]

镍合金溅射靶及镍硅化物膜 [P].

山越康广 .

中国专利 :CN102165094B ,2011-08-24

[2]

镍合金溅射靶 [P].

山越康广 .

中国专利 :CN1735707A ,2006-02-15

[3]

Ni合金膜及Ni合金膜形成用溅射靶材 [P].

村田英夫 ;

加藤萌美 .

日本专利 :CN119998475A ,2025-05-13

[4]

Ag合金膜及Ag合金溅射靶 [P].

林雄二郎 ;

小见山昌三 .

中国专利 :CN114761608A ,2022-07-15

[5]

Cu-Ni合金溅射靶 [P].

加藤慎司 ;

井尾谦介 .

中国专利 :CN111936660A ,2020-11-13

[6]

Cu-Ni合金溅射靶 [P].

井尾谦介 ;

加藤慎司 .

中国专利 :CN111788332B ,2020-10-16

[7]

层叠膜及Ag合金溅射靶 [P].

岁森悠人 ;

野中庄平 .

中国专利 :CN112119179A ,2020-12-22

[8]

Al基合金溅射靶及Cu基合金溅射靶 [P].

松本克史 ;

中井淳一 ;

高木敏晃 .

中国专利 :CN103348036A ,2013-10-09

[9]

银合金溅射靶以及银合金膜 [P].

岁森悠人 ;

野中荘平 .

中国专利 :CN113474481A ,2021-10-01

[10]

银合金溅射靶以及银合金膜 [P].

岁森悠人 ;

野中庄平 .

中国专利 :CN113366140A ,2021-09-07

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