图案形成方法及光阻组成物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180015598.6

申请日：

2011-03-25

公开(公告)号：

CN102822746A

公开(公告)日：

2012-12-12

发明(设计)人：

加藤启太樽谷晋司土桥彻上村聪榎本雄一郎藤井佳奈岩户薰片冈祥平水谷一良

申请人：

申请人地址：

日本东京港区西麻布二丁目26番30号

IPC主分类号：

G03F7038

IPC分类号：

G03F7039 G03F732 H01L21027

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

臧建明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-12-12	公开	公开
2017-03-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101747585128 IPC(主分类):G03F 7/038 专利申请号:2011800155986 申请公布日:20121212
2013-02-13	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101395520247 IPC(主分类):G03F 7/038 专利申请号:2011800155986 申请日:20110325

共 50 条

[1]

图案形成方法及光阻组成物 [P].

加藤启太 ;

樽谷晋司 ;

土桥彻 ;

上村聪 ;

榎本雄一郎 ;

藤井佳奈 ;

岩户薰 ;

片冈祥平 ;

水谷一良 .

中国专利 :CN106200268A ,2016-12-07

[2]

光阻组成物及形成光阻图案的方法 [P].

刘朕与 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN110955112A ,2020-04-03

[3]

光阻组成物及形成光阻图案的方法 [P].

刘朕与 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN110955112B ,2024-04-26

[4]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

橘诚一郎 ;

菊地骏 ;

半田龙之介 .

日本专利 :CN118938599A ,2024-11-12

[5]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

提箸正义 ;

大友雄太郎 .

日本专利 :CN120652740A ,2025-09-16

[6]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大友雄太郎 ;

小林知洋 .

日本专利 :CN117539126A ,2024-02-09

[7]

光阻组合物及图案形成方法 [P].

渡边聪 ;

田中启顺 ;

渡边武 ;

金生刚 .

中国专利 :CN102591152A ,2012-07-18

[8]

光阻组合物及图案形成方法 [P].

渡边聪 ;

田中启顺 ;

渡边武 ;

金生刚 .

中国专利 :CN101625524A ,2010-01-13

[9]

有机层组成物及图案形成方法 [P].

南沇希 ;

姜善惠 ;

金瑆焕 ;

郑瑟基 ;

金旼秀 ;

文秀贤 .

中国专利 :CN109478015B ,2019-03-15

[10]

负型图案形成方法、负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案 [P].

岩户薰 ;

片冈祥平 ;

樽谷晋司 ;

上村聪 ;

加藤启太 ;

榎本雄一郎 ;

水谷一良 ;

土桥彻 ;

藤井佳奈 .

中国专利 :CN102844710B ,2012-12-26

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