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光阻组成物及形成光阻图案的方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910926287.3
申请日：
2019-09-27
公开(公告)号：
CN110955112A
公开(公告)日：
2020-04-03
发明(设计)人：
刘朕与 张庆裕 林进祥
申请人：
申请人地址：
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
IPC主分类号：
G03F7004
IPC分类号：
G03F716
代理机构：
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人：
徐金国
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-04-03 公开 公开
2020-05-01 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20190927
共 50 条
[1]
光阻组成物及形成光阻图案的方法 [P]. 
刘朕与 ;
张庆裕 ;
林进祥 .
中国专利 :CN110955112B ,2024-04-26
[2]
图案形成方法及光阻组成物 [P]. 
加藤启太 ;
樽谷晋司 ;
土桥彻 ;
上村聪 ;
榎本雄一郎 ;
藤井佳奈 ;
岩户薰 ;
片冈祥平 ;
水谷一良 .
中国专利 :CN106200268A ,2016-12-07
[3]
图案形成方法及光阻组成物 [P]. 
加藤启太 ;
樽谷晋司 ;
土桥彻 ;
上村聪 ;
榎本雄一郎 ;
藤井佳奈 ;
岩户薰 ;
片冈祥平 ;
水谷一良 .
中国专利 :CN102822746A ,2012-12-12
[4]
形成光阻图案的方法 [P]. 
訾安仁 ;
林进祥 ;
张庆裕 .
中国专利 :CN110609441A ,2019-12-24
[5]
光阻组成物 [P]. 
訾安仁 ;
张庆裕 ;
林进祥 .
中国专利 :CN110874016A ,2020-03-10
[6]
光阻组成物、形成光阻组成物的方法及极紫外线微影方法 [P]. 
刘瑞雄 ;
高蔡胜 ;
林本坚 ;
吴晏如 ;
林庭安 ;
蔡函璁 ;
陈柏熊 .
中国专利 :CN117518719A ,2024-02-06
[7]
光阻剂组合物和形成光阻图案及图案化材料层的方法 [P]. 
翁明晖 ;
赖韦翰 ;
张庆裕 .
中国专利 :CN119439628A ,2025-02-14
[8]
负型光阻混合物及光阻图案形成方法 [P]. 
高攀 .
中国专利 :CN111176072A ,2020-05-19
[9]
化学增幅型光阻组成物、使用该组成物的光阻膜、涂布光阻的空白光罩、光阻图案形成方法、光罩及聚合化合物 [P]. 
土村智孝 ;
八尾忠辉 .
中国专利 :CN103329045A ,2013-09-25
[10]
光阻剂组成物及形成半导体器件的图案的方法 [P]. 
郑载昌 ;
李晟求 .
中国专利 :CN101216669B ,2008-07-09
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