光阻剂组合物和形成光阻图案及图案化材料层的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411412230.9

申请日：

2024-10-11

公开(公告)号：

CN119439628A

公开(公告)日：

2025-02-14

发明(设计)人：

翁明晖赖韦翰张庆裕

申请人：

台湾积体电路制造股份有限公司

申请人地址：

中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号

IPC主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/004 G03F7/26 G03F7/00

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-04	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/16申请日:20241011
2025-02-14	公开	公开

共 50 条

[1]

光阻组成物及形成光阻图案的方法 [P].

刘朕与 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN110955112A ,2020-04-03

[2]

光阻组成物及形成光阻图案的方法 [P].

刘朕与 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN110955112B ,2024-04-26

[3]

光阻溶液及图案化光阻层的制备方法 [P].

王士诚 ;

訾安仁 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN119535888A ,2025-02-28

[4]

用于制备图案化光阻剂层的方法及光阻剂溶液 [P].

王士诚 ;

訾安仁 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN119511635A ,2025-02-25

[5]

聚合物、正型光阻组合物、与形成图案化光阻层的方法 [P].

许玉莹 ;

黄耀正 ;

吴明宗 ;

张金华 ;

张德宜 .

中国专利 :CN120518819A ,2025-08-22

[6]

形成光阻图案的方法 [P].

訾安仁 ;

林进祥 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN110609441A ,2019-12-24

[7]

用于光阻剂的外涂层组合物及使用该组合物形成光阻剂图案的方法 [P].

卜喆圭 ;

郑载昌 ;

文承灿 ;

申起秀 .

中国专利 :CN1512265A ,2004-07-14

[8]

光阻的形成方法、光阻溶液以及图案化光阻的形成方法 [P].

訾安仁 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN118068648A ,2024-05-24

[9]

光阻剂的图案化方法和相关的图案化系统 [P].

J·德博埃耶 ;

M·Y·洛克捷夫 ;

S·米萨特 .

:CN118284856A ,2024-07-02

[10]

负型光阻组合物及图案形成方法 [P].

田中启顺 ;

增永惠一 ;

土门大将 ;

渡边聪 .

中国专利 :CN102096321B ,2011-06-15

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