光阻的形成方法、光阻溶液以及图案化光阻的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311487819.0

申请日：

2023-11-09

公开(公告)号：

CN118068648A

公开(公告)日：

2024-05-24

发明(设计)人：

訾安仁张庆裕

申请人：

台湾积体电路制造股份有限公司

申请人地址：

中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号

IPC主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/38 G03F7/40 G03F7/32 G03F7/20

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-06-11	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/16申请日:20231109
2024-05-24	公开	公开

共 50 条

[1]

光阻图案形成方法 [P].

渡边聪 ;

田中启顺 ;

渡边武 ;

金生刚 .

中国专利 :CN102520581A ,2012-06-27

[2]

光阻图案的形成方法及光掩模的制造方法 [P].

武田隆信 ;

渡边聪 ;

渡边保 ;

田中启顺 ;

增永惠一 ;

小板桥龙二 .

中国专利 :CN101625523B ,2010-01-13

[3]

光阻溶液及图案化光阻层的制备方法 [P].

王士诚 ;

訾安仁 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN119535888A ,2025-02-28

[4]

光阻组合物及图案形成方法 [P].

渡边聪 ;

田中启顺 ;

渡边武 ;

金生刚 .

中国专利 :CN102591152A ,2012-07-18

[5]

光阻组合物及图案形成方法 [P].

渡边聪 ;

田中启顺 ;

渡边武 ;

金生刚 .

中国专利 :CN101625524A ,2010-01-13

[6]

负型光阻组合物及图案形成方法 [P].

田中启顺 ;

增永惠一 ;

土门大将 ;

渡边聪 .

中国专利 :CN102081304A ,2011-06-01

[7]

用于制备图案化光阻剂层的方法及光阻剂溶液 [P].

王士诚 ;

訾安仁 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN119511635A ,2025-02-25

[8]

光阻剂组合物和形成光阻图案及图案化材料层的方法 [P].

翁明晖 ;

赖韦翰 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN119439628A ,2025-02-14

[9]

负型光阻组合物及图案形成方法 [P].

田中启顺 ;

增永惠一 ;

土门大将 ;

渡边聪 .

中国专利 :CN102096321B ,2011-06-15

[10]

微细图案形成材料、微细光阻图案形成方法及电子装置 [P].

石桥健夫 ;

高桥清久 ;

高野佑辅 .

中国专利 :CN101006394A ,2007-07-25

← 1 2 3 4 5 →