光阻图案的形成方法及光掩模的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910140186.X

申请日：

2009-07-10

公开(公告)号：

CN101625523B

公开(公告)日：

2010-01-13

发明(设计)人：

武田隆信渡边聪渡边保田中启顺增永惠一小板桥龙二

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

G03F7039 G03F100

代理机构：

隆天国际知识产权代理有限公司 72003

代理人：

菅兴成;吴小瑛

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-01-13	公开	公开
2012-09-19	授权	授权
2010-05-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101001726030 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:200910140186X 申请日:20090710

共 50 条

[1]

光掩模坯、抗蚀剂图案形成方法和光掩模的制造方法 [P].

阿达铁平 ;

渡边聪 ;

土门大将 ;

增永恵一 .

中国专利 :CN106054529A ,2016-10-26

[2]

光掩模坯、抗蚀剂图案形成方法和光掩模的制造方法 [P].

阿达铁平 ;

渡边聪 ;

土门大将 ;

增永惠一 .

中国专利 :CN105629664B ,2016-06-01

[3]

光阻图案形成方法 [P].

渡边聪 ;

田中启顺 ;

渡边武 ;

金生刚 .

中国专利 :CN102520581A ,2012-06-27

[4]

光阻图案的形成方法 [P].

泽边贤 ;

野尻刚 .

中国专利 :CN102520580A ,2012-06-27

[5]

光阻组合物及图案形成方法 [P].

渡边聪 ;

田中启顺 ;

渡边武 ;

金生刚 .

中国专利 :CN102591152A ,2012-07-18

[6]

光阻组合物及图案形成方法 [P].

渡边聪 ;

田中启顺 ;

渡边武 ;

金生刚 .

中国专利 :CN101625524A ,2010-01-13

[7]

光阻的形成方法、光阻溶液以及图案化光阻的形成方法 [P].

訾安仁 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN118068648A ,2024-05-24

[8]

光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法 [P].

田边胜 ;

浅川敬司 ;

安森顺一 .

日本专利 :CN113391515B ,2025-02-25

[9]

光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法 [P].

田边胜 ;

浅川敬司 ;

安森顺一 .

中国专利 :CN113391515A ,2021-09-14

[10]

形成光阻图案的方法 [P].

訾安仁 ;

林进祥 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN110609441A ,2019-12-24

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