等离子体多弧离子镀膜装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN94207535.8

申请日：

1994-04-04

公开(公告)号：

CN2187177Y

公开(公告)日：

1995-01-11

发明(设计)人：

杨宁合王百江窦久存李兰民王百新

申请人：

申请人地址：

064202河北省遵化市新店子镇

IPC主分类号：

C23C1432

IPC分类号：

代理机构：

唐山专利事务所

代理人：

张云和

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1995-01-11	授权	授权
1998-06-03	专利权的终止未缴年费专利权终止	专利权的终止未缴年费专利权终止

共 50 条

[1]

等离子体加速器法离子镀膜装置 [P].

王殿儒 .

中国专利 :CN2042082U ,1989-08-02

[2]

等离子体加速器法离子镀膜装置 [P].

王殿儒 ;

田大准 .

中国专利 :CN1013964B ,1988-03-30

[3]

多弧离子镀膜装置 [P].

王君 ;

闫超颖 ;

依君 ;

梁惠朋 .

中国专利 :CN217809633U ,2022-11-15

[4]

多弧离子镀膜装置 [P].

王君 ;

闫超颖 ;

依君 ;

梁惠朋 .

中国专利 :CN114717522A ,2022-07-08

[5]

多弧离子镀膜装置 [P].

王君 ;

闫超颖 ;

依君 ;

梁惠朋 .

中国专利 :CN114717522B ,2025-04-22

[6]

多弧离子镀膜装置 [P].

孙桂红 ;

祝海生 ;

陈立 ;

凌云 ;

黄夏 ;

黄国兴 .

中国专利 :CN109930117A ,2019-06-25

[7]

多弧离子镀膜装置 [P].

展亚男 .

中国专利 :CN103031525B ,2013-04-10

[8]

多弧离子镀技术中的等离子体蒸发装置 [P].

王永光 ;

吕凤玲 ;

李立国 ;

穆湘沅 ;

王玉华 .

中国专利 :CN2066030U ,1990-11-21

[9]

多弧离子镀膜靶材 [P].

杨小岗 .

中国专利 :CN211897089U ,2020-11-10

[10]

等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置 [P].

吕尚亿 ;

丁雪苗 ;

赵公魄 ;

赵芝强 .

中国专利 :CN213708469U ,2021-07-16

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