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等离子体加速器法离子镀膜装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN89200444.4
申请日
:
1989-01-14
公开(公告)号
:
CN2042082U
公开(公告)日
:
1989-08-02
发明(设计)人
:
王殿儒
申请人
:
申请人地址
:
北京市海淀区白石桥路7号
IPC主分类号
:
C23C1432
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
1990-03-14
授权
授权
1989-08-02
公开
公开
1994-03-23
专利权有效期的续展(依据修改前的专利法第45条)
专利权有效期的续展(依据修改前的专利法第45条)
1997-07-23
专利权的终止专利权有效期届满
专利权的终止专利权有效期届满
共 50 条
[1]
等离子体加速器法离子镀膜装置
[P].
王殿儒
论文数:
0
引用数:
0
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0
王殿儒
;
田大准
论文数:
0
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田大准
.
中国专利
:CN1013964B
,1988-03-30
[2]
等离子体多弧离子镀膜装置
[P].
杨宁合
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杨宁合
;
王百江
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王百江
;
窦久存
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窦久存
;
李兰民
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李兰民
;
王百新
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0
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0
王百新
.
中国专利
:CN2187177Y
,1995-01-11
[3]
等离子体加速器
[P].
朴源泽
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朴源泽
;
瓦西里·帕什科夫斯基
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瓦西里·帕什科夫斯基
;
尤里·托尔马切夫
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尤里·托尔马切夫
.
中国专利
:CN1953636B
,2007-04-25
[4]
等离子体加速器装置
[P].
冈特·科恩费尔德
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冈特·科恩费尔德
;
于尔根·韦格纳
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于尔根·韦格纳
;
哈拉尔·塞德尔
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哈拉尔·塞德尔
.
中国专利
:CN1314070A
,2001-09-19
[5]
等离子体加速器装置
[P].
冈特·科恩菲尔德
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冈特·科恩菲尔德
;
沃纳·施韦特费格
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沃纳·施韦特费格
.
中国专利
:CN1418453A
,2003-05-14
[6]
等离子体加速器装置
[P].
冈特·科恩菲尔德
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冈特·科恩菲尔德
;
沃纳·施韦特费格
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沃纳·施韦特费格
.
中国专利
:CN1418290A
,2003-05-14
[7]
等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置
[P].
吕尚亿
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吕尚亿
;
丁雪苗
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丁雪苗
;
赵公魄
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赵公魄
;
赵芝强
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赵芝强
.
中国专利
:CN213708469U
,2021-07-16
[8]
等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置
[P].
吕尚亿
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吕尚亿
;
丁雪苗
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丁雪苗
;
赵公魄
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赵公魄
;
赵芝强
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赵芝强
.
中国专利
:CN112159960A
,2021-01-01
[9]
等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头
[P].
丁雪苗
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丁雪苗
;
赵芝强
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赵芝强
;
赵公魄
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赵公魄
.
中国专利
:CN212357368U
,2021-01-15
[10]
等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头
[P].
丁雪苗
论文数:
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引用数:
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机构:
珠海宝丰堂电子科技有限公司
珠海宝丰堂电子科技有限公司
丁雪苗
;
赵芝强
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机构:
珠海宝丰堂电子科技有限公司
珠海宝丰堂电子科技有限公司
赵芝强
;
赵公魄
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0
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机构:
珠海宝丰堂电子科技有限公司
珠海宝丰堂电子科技有限公司
赵公魄
.
中国专利
:CN111364010B
,2024-08-13
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