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等离子体加速器装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN99809994.5
申请日
:
1999-06-11
公开(公告)号
:
CN1314070A
公开(公告)日
:
2001-09-19
发明(设计)人
:
冈特·科恩费尔德
于尔根·韦格纳
哈拉尔·塞德尔
申请人
:
申请人地址
:
德国乌尔姆
IPC主分类号
:
H05H154
IPC分类号
:
代理机构
:
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人
:
武玉琴;朱登河
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2001-10-03
实质审查的生效
实质审查的生效
2019-05-31
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05H 1/54 申请日:19990611 授权公告日:20041201 终止日期:20180611
2001-09-19
公开
公开
2004-12-01
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体加速器
[P].
朴源泽
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朴源泽
;
瓦西里·帕什科夫斯基
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瓦西里·帕什科夫斯基
;
尤里·托尔马切夫
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尤里·托尔马切夫
.
中国专利
:CN1953636B
,2007-04-25
[2]
等离子体加速器装置
[P].
冈特·科恩菲尔德
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冈特·科恩菲尔德
;
沃纳·施韦特费格
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沃纳·施韦特费格
.
中国专利
:CN1418453A
,2003-05-14
[3]
等离子体加速器装置
[P].
冈特·科恩菲尔德
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冈特·科恩菲尔德
;
沃纳·施韦特费格
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沃纳·施韦特费格
.
中国专利
:CN1418290A
,2003-05-14
[4]
等离子体加速器法离子镀膜装置
[P].
王殿儒
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王殿儒
;
田大准
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田大准
.
中国专利
:CN1013964B
,1988-03-30
[5]
等离子体加速器法离子镀膜装置
[P].
王殿儒
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王殿儒
.
中国专利
:CN2042082U
,1989-08-02
[6]
具有离子加速器的双室等离子体蚀刻器
[P].
乔伊迪普·古哈
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乔伊迪普·古哈
.
中国专利
:CN104282522A
,2015-01-14
[7]
具有离子加速器的双室等离子体蚀刻器
[P].
乔伊迪普·古哈
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乔伊迪普·古哈
.
中国专利
:CN107068559B
,2017-08-18
[8]
等离子体级联激光离子加速装置
[P].
刘明伟
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刘明伟
;
周并举
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周并举
;
张禹涛
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张禹涛
.
中国专利
:CN204259270U
,2015-04-08
[9]
等离子体级联激光离子加速装置
[P].
刘明伟
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刘明伟
;
周并举
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周并举
;
张禹涛
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张禹涛
.
中国专利
:CN104411084B
,2015-03-11
[10]
一种双极固体烧蚀型等离子体加速器
[P].
杨磊
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杨磊
;
黄玉平
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黄玉平
;
曾广商
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曾广商
;
杨斌
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杨斌
;
闫丽媛
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闫丽媛
.
中国专利
:CN106640568A
,2017-05-10
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