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等离子体加速器
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200610159307.1
申请日
:
2006-09-27
公开(公告)号
:
CN1953636B
公开(公告)日
:
2007-04-25
发明(设计)人
:
朴源泽
瓦西里·帕什科夫斯基
尤里·托尔马切夫
申请人
:
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
H05H154
IPC分类号
:
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
魏晓刚;李晓舒
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2007-04-25
公开
公开
2010-05-19
授权
授权
2007-06-13
实质审查的生效
实质审查的生效
共 50 条
[1]
等离子体加速器装置
[P].
冈特·科恩费尔德
论文数:
0
引用数:
0
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冈特·科恩费尔德
;
于尔根·韦格纳
论文数:
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0
于尔根·韦格纳
;
哈拉尔·塞德尔
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0
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0
哈拉尔·塞德尔
.
中国专利
:CN1314070A
,2001-09-19
[2]
等离子体加速器装置
[P].
冈特·科恩菲尔德
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0
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0
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0
冈特·科恩菲尔德
;
沃纳·施韦特费格
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0
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沃纳·施韦特费格
.
中国专利
:CN1418453A
,2003-05-14
[3]
等离子体加速器装置
[P].
冈特·科恩菲尔德
论文数:
0
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0
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冈特·科恩菲尔德
;
沃纳·施韦特费格
论文数:
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沃纳·施韦特费格
.
中国专利
:CN1418290A
,2003-05-14
[4]
等离子体加速器法离子镀膜装置
[P].
王殿儒
论文数:
0
引用数:
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0
王殿儒
;
田大准
论文数:
0
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0
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田大准
.
中国专利
:CN1013964B
,1988-03-30
[5]
等离子体加速器法离子镀膜装置
[P].
王殿儒
论文数:
0
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0
王殿儒
.
中国专利
:CN2042082U
,1989-08-02
[6]
具有离子加速器的双室等离子体蚀刻器
[P].
乔伊迪普·古哈
论文数:
0
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0
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0
乔伊迪普·古哈
.
中国专利
:CN104282522A
,2015-01-14
[7]
具有离子加速器的双室等离子体蚀刻器
[P].
乔伊迪普·古哈
论文数:
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引用数:
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0
乔伊迪普·古哈
.
中国专利
:CN107068559B
,2017-08-18
[8]
一种双极固体烧蚀型等离子体加速器
[P].
杨磊
论文数:
0
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0
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0
杨磊
;
黄玉平
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0
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0
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黄玉平
;
曾广商
论文数:
0
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0
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曾广商
;
杨斌
论文数:
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0
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杨斌
;
闫丽媛
论文数:
0
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0
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0
闫丽媛
.
中国专利
:CN106640568A
,2017-05-10
[9]
基于全光激光等离子体加速器的γ射线源
[P].
中岛一久
论文数:
0
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0
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中岛一久
;
陈民
论文数:
0
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0
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陈民
;
曾明
论文数:
0
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0
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曾明
;
陈黎明
论文数:
0
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0
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0
陈黎明
;
盛政明
论文数:
0
引用数:
0
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0
盛政明
.
中国专利
:CN103745760B
,2014-04-23
[10]
等离子体级联激光离子加速装置
[P].
刘明伟
论文数:
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刘明伟
;
周并举
论文数:
0
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周并举
;
张禹涛
论文数:
0
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0
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0
张禹涛
.
中国专利
:CN204259270U
,2015-04-08
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