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测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法以及曝光方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010107659.2
申请日：
2016-02-23
公开(公告)号：
CN111176083A
公开(公告)日：
2020-05-19
发明(设计)人：
柴崎祐一
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F900
IPC分类号：
G03F720
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
王天尧;汤在彦
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-05-19 | 公开 | 公开 |
| 2020-06-12 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20160223 |