半导体制程设备的清洁方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200310123420.0

申请日：

2003-12-26

公开(公告)号：

CN1635609A

公开(公告)日：

2005-07-06

发明(设计)人：

张广诚邱正杰林继辉陈传益黄信正谢朝凯赵伟胜

申请人：

申请人地址：

台湾省高雄市811楠梓区楠梓加工区中央路36号

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

B08B9027 B08B9053

代理机构：

中国商标专利事务所有限公司

代理人：

万学堂

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-08-31	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-08-15	授权	授权
2005-07-06	公开	公开
2018-02-16	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20031226 授权公告日:20070815 终止日期:20161226

共 50 条

[1]

半导体制程设备及半导体制程设备的保养方法 [P].

尚思飞 .

中国专利 :CN118610131B ,2024-11-12

[2]

半导体制程设备及半导体制程设备的保养方法 [P].

尚思飞 .

中国专利 :CN118610131A ,2024-09-06

[3]

半导体制程设备 [P].

张佑语 ;

黄俊尧 .

中国专利 :CN208938918U ,2019-06-04

[4]

半导体设备以及半导体制程方法 [P].

张永昌 ;

蔡孟吟 ;

刘东雄 ;

叶良佑 ;

李隽毅 ;

黄国希 .

中国专利 :CN110707021A ,2020-01-17

[5]

半导体制程机台及其半导体制程 [P].

林武郎 ;

郑煌玉 ;

王陈右 ;

陈世敏 ;

范釗傑 ;

高诚志 ;

刘又瑋 .

中国专利 :CN104253065A ,2014-12-31

[6]

半导体制程的方法 [P].

罗宗祐 ;

邹亚叡 ;

董宜承 ;

刘致为 .

中国专利 :CN111129291A ,2020-05-08

[7]

半导体制程的方法 [P].

刘书豪 ;

陈国儒 ;

吴濬宏 ;

陈佳政 ;

陈亮吟 ;

张惠政 ;

王英郎 .

中国专利 :CN110544720A ,2019-12-06

[8]

半导体制程的方法 [P].

郑威昌 ;

陈政光 ;

廖啟宏 .

中国专利 :CN108987251A ,2018-12-11

[9]

半导体制程方法 [P].

邓上轩 ;

林梵琦 ;

郭爵旗 ;

陈立锐 ;

刘恒信 .

中国专利 :CN114792649A ,2022-07-26

[10]

半导体制程系统 [P].

张志逢 ;

陈伟仁 ;

李俊億 ;

林展永 .

中国专利 :CN212322971U ,2021-01-08

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