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制造浅沟槽隔离结构(STI)的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN03119437.0
申请日
:
2003-03-12
公开(公告)号
:
CN1531057A
公开(公告)日
:
2004-09-22
发明(设计)人
:
陈振隆
林平伟
聂俊峰
郑丰绪
申请人
:
申请人地址
:
台湾省新竹科学工业园区
IPC主分类号
:
H01L2176
IPC分类号
:
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司
代理人
:
王一斌
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2004-09-22
公开
公开
2004-12-01
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-10-04
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
共 50 条
[1]
形成浅沟槽隔离(STI)结构的方法
[P].
贾斯丁·希罗奇·萨托
论文数:
0
引用数:
0
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0
贾斯丁·希罗奇·萨托
;
格雷戈里·艾伦·斯托姆
论文数:
0
引用数:
0
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0
格雷戈里·艾伦·斯托姆
.
中国专利
:CN107690692A
,2018-02-13
[2]
浅沟槽隔离结构的制造方法
[P].
韩秋华
论文数:
0
引用数:
0
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0
韩秋华
;
杜珊珊
论文数:
0
引用数:
0
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0
杜珊珊
;
黄怡
论文数:
0
引用数:
0
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0
黄怡
;
赵林林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
赵林林
.
中国专利
:CN101770974A
,2010-07-07
[3]
浅沟槽隔离结构的制造方法
[P].
刘兵武
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘兵武
.
中国专利
:CN101989565A
,2011-03-23
[4]
浅沟槽隔离结构的制造方法
[P].
李睿
论文数:
0
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0
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0
李睿
;
俞柳江
论文数:
0
引用数:
0
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0
俞柳江
;
王庆东
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王庆东
.
中国专利
:CN101226895A
,2008-07-23
[5]
改善微笑效应的浅沟槽隔离结构的制造方法
[P].
萧宇成
论文数:
0
引用数:
0
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0
萧宇成
.
中国专利
:CN1277302C
,2005-04-27
[6]
形成浅沟槽隔离(STI)的方法及其结构
[P].
傅竹韵
论文数:
0
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0
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0
傅竹韵
;
陆志诚
论文数:
0
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0
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0
陆志诚
;
章勋明
论文数:
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0
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0
章勋明
.
中国专利
:CN1649122A
,2005-08-03
[7]
形成浅沟槽隔离结构的方法及浅沟槽隔离结构
[P].
韩秋华
论文数:
0
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0
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0
韩秋华
;
陈海华
论文数:
0
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0
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0
陈海华
;
张世谋
论文数:
0
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0
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0
张世谋
;
韩宝东
论文数:
0
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0
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0
韩宝东
.
中国专利
:CN101673701A
,2010-03-17
[8]
浅沟槽隔离结构的制造方法
[P].
何永根
论文数:
0
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0
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0
何永根
;
刘焕新
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0
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0
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0
刘焕新
;
朴松源
论文数:
0
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0
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朴松源
;
方标
论文数:
0
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0
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0
方标
.
中国专利
:CN100483669C
,2008-04-02
[9]
浅沟槽隔离结构的制造方法
[P].
陈建奇
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈建奇
.
中国专利
:CN104425354A
,2015-03-18
[10]
浅沟槽隔离结构的制造方法
[P].
刘焕新
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘焕新
.
中国专利
:CN101789389A
,2010-07-28
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