用于处理基板的工艺腔室和静电吸盘

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201921109915.0
申请日
2019-07-15
公开(公告)号
CN210296330U
公开(公告)日
2020-04-10
发明(设计)人
J·西蒙斯 D·洛弗尔
申请人
申请人地址
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
H01L21683
IPC分类号
代理机构
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
侯颖媖;张鑫
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
基片处理装置和静电吸盘 [P]. 
金泽和志 ;
山口伸 ;
加藤诚人 ;
武藤亮磨 .
日本专利 :CN119585860A ,2025-03-07
[2]
基片处理装置和静电吸盘 [P]. 
大槻兴平 ;
山口伸 ;
佐竹大辅 .
中国专利 :CN115513028A ,2022-12-23
[3]
基板固定装置、静电吸盘和静电吸盘的制造方法 [P]. 
竹元启一 ;
原山洋一 ;
浅川浩行 ;
六川贵博 .
中国专利 :CN114496886A ,2022-05-13
[4]
静电吸盘、基板固定装置和静电吸盘的制造方法 [P]. 
小林健太郎 ;
渡边瑞贵 ;
山口晃平 ;
佐藤淳夫 .
中国专利 :CN115692296A ,2023-02-03
[5]
陶瓷基板、静电吸盘以及静电吸盘的制造方法 [P]. 
峰村知刚 .
日本专利 :CN113248288B ,2024-05-17
[6]
陶瓷基板、静电吸盘以及静电吸盘的制造方法 [P]. 
峰村知刚 .
中国专利 :CN113248288A ,2021-08-13
[7]
等离子体处理装置和静电吸盘 [P]. 
佐藤隆彦 ;
吉田哲雄 .
日本专利 :CN118160082A ,2024-06-07
[8]
等离子体处理装置和静电吸盘 [P]. 
加藤诚人 .
日本专利 :CN117542717A ,2024-02-09
[9]
等离子体处理装置和静电吸盘 [P]. 
荒卷昂 ;
四本松康太 ;
李黎夫 ;
辻本宏 .
日本专利 :CN119678244A ,2025-03-21
[10]
静电吸盘和基板处理设备 [P]. 
曹生贤 .
中国专利 :CN111902926A ,2020-11-06