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用于处理基板的工艺腔室和静电吸盘
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201921109915.0
申请日
:
2019-07-15
公开(公告)号
:
CN210296330U
公开(公告)日
:
2020-04-10
发明(设计)人
:
J·西蒙斯
D·洛弗尔
申请人
:
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01L21683
IPC分类号
:
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
侯颖媖;张鑫
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-04-10
授权
授权
共 50 条
[1]
基片处理装置和静电吸盘
[P].
金泽和志
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
金泽和志
;
山口伸
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山口伸
;
加藤诚人
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
加藤诚人
;
武藤亮磨
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
武藤亮磨
.
日本专利
:CN119585860A
,2025-03-07
[2]
基片处理装置和静电吸盘
[P].
大槻兴平
论文数:
0
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0
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0
大槻兴平
;
山口伸
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0
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0
山口伸
;
佐竹大辅
论文数:
0
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0
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0
佐竹大辅
.
中国专利
:CN115513028A
,2022-12-23
[3]
基板固定装置、静电吸盘和静电吸盘的制造方法
[P].
竹元启一
论文数:
0
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竹元启一
;
原山洋一
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原山洋一
;
浅川浩行
论文数:
0
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浅川浩行
;
六川贵博
论文数:
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0
六川贵博
.
中国专利
:CN114496886A
,2022-05-13
[4]
静电吸盘、基板固定装置和静电吸盘的制造方法
[P].
小林健太郎
论文数:
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小林健太郎
;
渡边瑞贵
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渡边瑞贵
;
山口晃平
论文数:
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山口晃平
;
佐藤淳夫
论文数:
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0
佐藤淳夫
.
中国专利
:CN115692296A
,2023-02-03
[5]
陶瓷基板、静电吸盘以及静电吸盘的制造方法
[P].
峰村知刚
论文数:
0
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0
机构:
新光电气工业株式会社
新光电气工业株式会社
峰村知刚
.
日本专利
:CN113248288B
,2024-05-17
[6]
陶瓷基板、静电吸盘以及静电吸盘的制造方法
[P].
峰村知刚
论文数:
0
引用数:
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峰村知刚
.
中国专利
:CN113248288A
,2021-08-13
[7]
等离子体处理装置和静电吸盘
[P].
佐藤隆彦
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤隆彦
;
吉田哲雄
论文数:
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
吉田哲雄
.
日本专利
:CN118160082A
,2024-06-07
[8]
等离子体处理装置和静电吸盘
[P].
加藤诚人
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
加藤诚人
.
日本专利
:CN117542717A
,2024-02-09
[9]
等离子体处理装置和静电吸盘
[P].
荒卷昂
论文数:
0
引用数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
荒卷昂
;
四本松康太
论文数:
0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
四本松康太
;
李黎夫
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
李黎夫
;
辻本宏
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
辻本宏
.
日本专利
:CN119678244A
,2025-03-21
[10]
静电吸盘和基板处理设备
[P].
曹生贤
论文数:
0
引用数:
0
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0
曹生贤
.
中国专利
:CN111902926A
,2020-11-06
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