基片处理装置和静电吸盘

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申请号
CN202210661902.4
申请日
2022-06-13
公开(公告)号
CN115513028A
公开(公告)日
2022-12-23
发明(设计)人
大槻兴平 山口伸 佐竹大辅
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
H01L21683
代理机构
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
龙淳;徐飞跃
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
基片处理装置和静电吸盘 [P]. 
金泽和志 ;
山口伸 ;
加藤诚人 ;
武藤亮磨 .
日本专利 :CN119585860A ,2025-03-07
[2]
等离子体处理装置和静电吸盘 [P]. 
佐藤隆彦 ;
吉田哲雄 .
日本专利 :CN118160082A ,2024-06-07
[3]
等离子体处理装置和静电吸盘 [P]. 
加藤诚人 .
日本专利 :CN117542717A ,2024-02-09
[4]
等离子体处理装置和静电吸盘 [P]. 
荒卷昂 ;
四本松康太 ;
李黎夫 ;
辻本宏 .
日本专利 :CN119678244A ,2025-03-21
[5]
基片处理装置和静电卡盘 [P]. 
大槻兴平 .
日本专利 :CN120345057A ,2025-07-18
[6]
静电吸盘和基片处理装置 [P]. 
佐佐木康晴 .
日本专利 :CN119678251A ,2025-03-21
[7]
静电吸盘和基片处理装置 [P]. 
佐藤雅纪 .
日本专利 :CN119452466A ,2025-02-14
[8]
静电吸盘组件和静电吸盘制造方法 [P]. 
乔俊熙 ;
黄永珠 ;
郑宰旭 .
美国专利 :CN112640081B ,2024-10-15
[9]
静电吸盘组件和静电吸盘制造方法 [P]. 
乔俊熙 ;
黄永珠 ;
郑宰旭 .
中国专利 :CN112640081A ,2021-04-09
[10]
静电吸盘装置 [P]. 
稻妻地浩 ;
小坂井守 ;
三浦幸夫 ;
牧惠吾 .
中国专利 :CN101501834B ,2009-08-05