等离子体氮化处理中的腔室内的前处理方法、等离子体处理方法、和等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880017976.2

申请日：

2008-05-27

公开(公告)号：

CN101681836A

公开(公告)日：

2010-03-24

发明(设计)人：

佐野正树石塚修一

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21318

IPC分类号：

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-03-24	公开	公开
2010-05-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101001462229 IPC(主分类):H01L 21/318 专利申请号:2008800179762 申请日:20080527
2011-11-16	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

李诚泰 ;

土桥和也 .

中国专利 :CN102347231B ,2012-02-08

[2]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

石川拓 ;

户部康弘 .

中国专利 :CN101622698B ,2010-01-06

[3]

等离子体氮化处理方法和等离子体氮化处理装置 [P].

高槻浩一 ;

山崎和良 ;

野口秀幸 ;

田村大辅 ;

齐藤智博 .

中国专利 :CN102725834B ,2012-10-10

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 ;

冈信介 .

中国专利 :CN100536634C ,2006-11-15

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

金子和史 .

中国专利 :CN114302547A ,2022-04-08

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

塚原利也 ;

山边周平 ;

谷地晃汰 ;

佐藤徹治 ;

内田阳平 ;

铃木步太 ;

田村洋典 ;

花冈秀敏 ;

佐佐木淳一 .

日本专利 :CN111261511B ,2024-06-18

[9]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

相内优太 ;

及川弘太 .

日本专利 :CN120642032A ,2025-09-12

[10]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

江藤隆纪 ;

泽田石真之 .

中国专利 :CN109390229A ,2019-02-26

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