抛光垫及其制备方法、应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810896688.4

申请日：

2018-08-08

公开(公告)号：

CN110815037B

公开(公告)日：

2020-02-21

发明(设计)人：

朱顺全车丽媛张季平吴晓茜

申请人：

申请人地址：

430057 湖北省武汉市武汉经济技术开发区东荆河路1号

IPC主分类号：

B24B3720

IPC分类号：

B24B3724 B24B3726 B24D1800

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-21	公开	公开
2020-05-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/20 申请日:20180808
2021-07-30	授权	授权

共 50 条

[1]

抛光垫及其制备方法、应用 [P].

朱顺全 ;

车丽媛 ;

张季平 ;

吴晓茜 .

中国专利 :CN110815038B ,2020-02-21

[2]

一种抛光垫及其制备方法、应用 [P].

王腾 ;

罗乙杰 ;

王磊 ;

刘敏 ;

杨浩 .

中国专利 :CN112338820A ,2021-02-09

[3]

抛光垫、制备方法及其应用 [P].

饶桥兵 ;

马海翔 .

中国专利 :CN107163213A ,2017-09-15

[4]

化学机械抛光垫的聚氨酯抛光层及其制备方法和应用、抛光垫 [P].

罗建勋 ;

王凯 ;

田骐源 ;

方璞 .

中国专利 :CN119039558A ,2024-11-29

[5]

一种抛光垫及其制备方法和应用 [P].

张焱坤 ;

王凯 .

中国专利 :CN120533609B ,2025-10-10

[6]

一种抛光垫及其制备方法和应用 [P].

张焱坤 ;

王凯 .

中国专利 :CN120533609A ,2025-08-26

[7]

聚氨酯抛光垫材料及其制备方法和应用 [P].

张泽芳 ;

宋仕强 ;

常彤彤 ;

王海波 .

中国专利 :CN113956421A ,2022-01-21

[8]

化学机械抛光垫、制备方法及其应用 [P].

谢毓 ;

王凯 .

中国专利 :CN113334243A ,2021-09-03

[9]

抛光垫及其制备方法 [P].

柳俊城 ;

权泰庆 ;

徐章源 ;

尹晟勋 .

中国专利 :CN110177655A ,2019-08-27

[10]

抛光垫及其制备方法 [P].

金颍焕 ;

徐章源 ;

尹钟旭 ;

闵恩基 ;

洪太壹 ;

文寿泳 .

韩国专利 :CN119927793A ,2025-05-06

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