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一种抛光垫及其制备方法和应用

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202511046808.8
申请日：
2025-07-29
公开(公告)号：
CN120533609B
公开(公告)日：
2025-10-10
发明(设计)人：
张焱坤 王凯
申请人：
万华化学集团电子材料有限公司
申请人地址：
264000 山东省烟台市开发区北京中路50号
IPC主分类号：
B24B37/22
IPC分类号：
B24B37/24 B24D11/00 B24D3/28 B24D3/34
代理机构：
北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250
代理人：
周卫赛
法律状态：
公开
国省代码：
河北省 石家庄市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-08-26 公开 公开
2025-09-12 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/22申请日:20250729
2025-10-10 授权 授权
共 50 条
[1]
一种抛光垫及其制备方法和应用 [P]. 
张焱坤 ;
王凯 .
中国专利 :CN120533609A ,2025-08-26
[2]
一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用 [P]. 
王福正 ;
王文芳 ;
董栋 .
中国专利 :CN120680426A ,2025-09-23
[3]
一种抛光垫材料及其制备方法和应用 [P]. 
黄棋淘 ;
刘婧 ;
相红旗 ;
余建刚 ;
马国才 ;
竹佳奇 .
中国专利 :CN119871213A ,2025-04-25
[4]
一种聚氨酯抛光垫及其制备方法 [P]. 
郑亮 ;
文宏章 .
中国专利 :CN120326519B ,2025-12-05
[5]
一种聚氨酯抛光垫及其制备方法 [P]. 
郑亮 ;
文宏章 .
中国专利 :CN120326519A ,2025-07-18
[6]
聚氨酯抛光垫材料及其制备方法和应用 [P]. 
张泽芳 ;
宋仕强 ;
常彤彤 ;
王海波 .
中国专利 :CN113956421A ,2022-01-21
[7]
化学机械抛光垫的聚氨酯抛光层及其制备方法和应用、抛光垫 [P]. 
罗建勋 ;
王凯 ;
田骐源 ;
方璞 .
中国专利 :CN119039558A ,2024-11-29
[8]
一种提高抛光效率的化学机械抛光垫及其制备方法 [P]. 
相红旗 ;
陈浩聪 ;
姚力军 .
中国专利 :CN114670119B ,2024-01-12
[9]
一种提高抛光效率的化学机械抛光垫及其制备方法 [P]. 
相红旗 ;
陈浩聪 ;
姚力军 .
中国专利 :CN114670119A ,2022-06-28
[10]
一种抛光材料、抛光垫及其制备方法和应用 [P]. 
张宁 ;
王福正 ;
王文芳 ;
董栋 .
中国专利 :CN119567089A ,2025-03-07
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