一种提高抛光效率的化学机械抛光垫及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110461986.2

申请日：

2021-04-27

公开(公告)号：

CN114670119B

公开(公告)日：

2024-01-12

发明(设计)人：

相红旗陈浩聪姚力军

申请人：

宁波赢伟泰科新材料有限公司宁波江丰电子材料股份有限公司

申请人地址：

315000 浙江省宁波市余姚市三七市镇云山中路28号(千人计划产业园内)(自主申报)

IPC主分类号：

B24B37/24

IPC分类号：

B24D18/00 B29C41/30 B08B3/08

代理机构：

上海微策知识产权代理事务所(普通合伙) 31333

代理人：

张静

法律状态：

授权

国省代码：

河北省衡水市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-01-12	授权	授权

共 50 条

[1]

一种提高抛光效率的化学机械抛光垫及其制备方法 [P].

相红旗 ;

陈浩聪 ;

姚力军 .

中国专利 :CN114670119A ,2022-06-28

[2]

化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P].

梅英杰 ;

鲁航 ;

王凯 ;

田骐源 ;

袁文杰 ;

高彦升 ;

闫晨凯 .

中国专利 :CN118721051B ,2025-08-29

[3]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[4]

化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P].

梅英杰 ;

鲁航 ;

王凯 ;

田骐源 ;

袁文杰 ;

高彦升 ;

闫晨凯 .

中国专利 :CN118721051A ,2024-10-01

[5]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[6]

化学机械抛光用抛光垫的制备方法 [P].

陈平 ;

李俊燕 ;

康仁科 .

中国专利 :CN1739915A ,2006-03-01

[7]

一种提高抛光液利用效率的化学机械抛光垫 [P].

相红旗 ;

陈浩聪 ;

姚力军 .

中国专利 :CN114643532A ,2022-06-21

[8]

化学机械抛光垫及其制备方法 [P].

B·钱 ;

J·考兹休克 ;

T·布鲁加罗拉斯布鲁福 ;

D·M·韦内齐亚莱 ;

Y·童 ;

D·卢戈 ;

J·B·米勒 ;

G·C·雅各布 ;

M·W·德格鲁特 ;

T·Q·陈 ;

M·R·斯塔克 ;

A·旺克 ;

F·叶 .

中国专利 :CN107695868A ,2018-02-16

[9]

化学机械抛光方法 [P].

钱百年 ;

郭毅 ;

M·W·德格鲁特 ;

G·C·雅各布 .

中国专利 :CN106625031A ,2017-05-10

[10]

抛光垫及其制备方法、化学机械抛光设备 [P].

邹小芳 ;

赵文砚 ;

段平平 ;

王晖 ;

张新豪 .

中国专利 :CN119772779A ,2025-04-08

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