一种电极间距可调的等离子体反应腔室及电极间距调整装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410217144.2

申请日：

2014-05-22

公开(公告)号：

CN103956315B

公开(公告)日：

2014-07-30

发明(设计)人：

杨义勇王佳赵康宁程嘉季林红

申请人：

申请人地址：

100083 北京市海淀区学院路29号

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

北京成创同维知识产权代理有限公司 11449

代理人：

张锦波;蔡纯

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20140522 授权公告日:20160518 终止日期:20180522
2014-07-30	公开	公开
2014-08-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101586354783 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2014102171442 申请日:20140522
2016-05-18	授权	授权

共 50 条

[1]

离子体反应腔室电极间隙调整装置及离子体反应腔室 [P].

杨义勇 ;

赵康宁 ;

程嘉 ;

季林红 .

中国专利 :CN103972014A ,2014-08-06

[2]

等离子体处理腔室及电极 [P].

陈金元 ;

崔强 ;

高颖 ;

尹志尧 ;

杜志游 .

中国专利 :CN203038891U ,2013-07-03

[3]

用于调节低温等离子体电极间距离的装置 [P].

金图南 ;

林慧敏 .

中国专利 :CN206077813U ,2017-04-05

[4]

用于等离子体反应室的基座调整装置 [P].

许正昱 ;

韩高锋 ;

若林华央 ;

王传道 .

中国专利 :CN118207519A ,2024-06-18

[5]

用于等离子体反应室的基座调整装置 [P].

许正昱 ;

韩高锋 ;

若林华央 ;

王传道 .

中国专利 :CN118207519B ,2024-09-17

[6]

等离子体处理装置、电极温度调整装置、电极温度调整方法 [P].

古屋正男 .

中国专利 :CN101320675B ,2008-12-10

[7]

更换等离子体反应室的电极组合的方法 [P].

J·利勒兰德 ;

J·S·哈巴塞克 ;

W·S·肯尼迪 ;

R·A·马拉斯钦 .

中国专利 :CN1574211A ,2005-02-02

[8]

用于等离子体反应腔室的电加热器、等离子体反应腔室 [P].

杜鹏程 ;

杨芹 ;

胡萍 ;

王桂滨 ;

马雷 .

中国专利 :CN120417139A ,2025-08-01

[9]

可调电极间距及平行度的刻蚀腔 [P].

李顺义 .

中国专利 :CN103578903A ,2014-02-12

[10]

等离子体处理腔室的下电极组件 [P].

贾森·奥古斯蒂诺 ;

康·召 ;

基思·威廉·加夫 ;

汉·通·哈 ;

布雷特·C·理查森 ;

哈梅特·辛格 .

中国专利 :CN102187741A ,2011-09-14

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