金属杂质含量的分析方法以及金属杂质含量的分析试剂盒

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980020110.5

申请日：

2019-05-15

公开(公告)号：

CN111868516A

公开(公告)日：

2020-10-30

发明(设计)人：

茑野恭平

申请人：

申请人地址：

日本国东京都江东区新砂1丁目2番8号

IPC主分类号：

G01N3000

IPC分类号：

B01J20281 G01N3002 G01N3318

代理机构：

北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444

代理人：

孙明;龚敏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-11-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 30/00 申请日:20190515
2020-10-30	公开	公开

共 50 条

[1]

多晶硅表面金属杂质含量的控制方法 [P].

刘翠 .

中国专利 :CN105239163A ,2016-01-13

[2]

分析试剂盒及分析方法 [P].

陈健生 ;

何天瑜 .

中国专利 :CN103954765A ,2014-07-30

[3]

晶圆金属杂质含量的检测方法及检测装置 [P].

段一菲 ;

王新赫 ;

宗芳 .

中国专利 :CN119601488A ,2025-03-11

[4]

电子级砷烷中痕量金属杂质含量的取样装置和分析方法 [P].

周庆美 ;

李东升 .

中国专利 :CN106226138A ,2016-12-14

[5]

一种晶态硅片金属杂质含量检测方法 [P].

王海涛 ;

廖晖 ;

李林东 ;

肖贵云 ;

陈伟 ;

金浩 .

中国专利 :CN107607494A ,2018-01-19

[6]

金属离子介导的荧光超猝灭分析、试剂盒以及试剂 [P].

夏文胜 ;

弗劳克·里尼斯兰德 ;

西瑞兰姆·库马尔阿斯万 ;

斯图尔特·库顺 ;

卢良德 .

中国专利 :CN1894582A ,2007-01-10

[7]

靶标分析试剂盒和靶标分析方法 [P].

吉田嘉仁 ;

堀井克纪 ;

和贺岩 ;

秋富穰 ;

金子直人 .

中国专利 :CN109477831A ,2019-03-15

[8]

用于分析样本中的待分析成分的方法和分析试剂盒 [P].

川村瑞穗 .

中国专利 :CN102687015A ,2012-09-19

[9]

一种石英玻璃中金属杂质含量的测定方法 [P].

江学公 ;

肖勇军 ;

欧阳琛 ;

张欣 ;

朱继红 .

中国专利 :CN120404894A ,2025-08-01

[10]

一种低金属杂质含量炭黑制备机构 [P].

王卫东 ;

任福勇 ;

蒋兵 ;

李开峰 ;

吴伟 .

中国专利 :CN207619313U ,2018-07-17

← 1 2 3 4 5 →