断续涂敷设备和断续涂敷方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN00104553.9

申请日：

2000-02-10

公开(公告)号：

CN1263798A

公开(公告)日：

2000-08-23

发明(设计)人：

桝田升渡边胜

申请人：

申请人地址：

日本国大阪府

IPC主分类号：

B05C502

IPC分类号：

B05C1110 F16K2300

代理机构：

上海专利商标事务所

代理人：

白益华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2002-05-01	实质审查的生效	实质审查的生效
2014-04-02	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101581197358 IPC(主分类):B05C 5/02 专利号:ZL001045539 申请日:20000210 授权公告日:20031001 终止日期:20130210
2003-10-01	授权	授权
2000-08-23	公开	公开

共 50 条

[1]

涂敷设备和涂敷方法 [P].

泽田郁夫 ;

松崎和爱 ;

田中崇 ;

岩下光秋 ;

宗像瑞惠 .

中国专利 :CN100595887C ,2008-12-24

[2]

基板涂敷设备和所述基板涂敷设备的涂敷方法 [P].

荻野忠弘 ;

土井敏也 ;

泽田英之 ;

田边雄二 .

中国专利 :CN101279310A ,2008-10-08

[3]

改进的涂敷设备和涂敷方法 [P].

李甲洙 ;

金楹洙 .

中国专利 :CN102887648B ,2013-01-23

[4]

涂布涂敷液的涂敷设备和方法 [P].

石津诚二 ;

小山浩 .

中国专利 :CN101883639A ,2010-11-10

[5]

涂敷设备 [P].

刘宝平 ;

张连绿 ;

夏斌 .

中国专利 :CN100431718C ,2006-09-27

[6]

涂敷设备 [P].

冈崎忠雄 ;

前原由和 .

中国专利 :CN1161253A ,1997-10-08

[7]

涂敷设备以及用于这种涂敷设备的涂敷装置 [P].

M·鲁斯托勒 ;

C·舒尔特海斯 ;

M·巴克 .

中国专利 :CN106794485B ,2017-05-31

[8]

静电涂敷方法和静电涂敷设备 [P].

村田光弥 ;

岸本直辉 ;

户田健太 .

中国专利 :CN101862717A ,2010-10-20

[9]

间歇涂敷方法与间歇涂敷设备 [P].

小林英男 ;

坂本雅基 ;

奥村正秀 ;

和尻浩宣 .

中国专利 :CN1133561C ,2002-03-27

[10]

涂敷方法和用于形成装饰涂层的涂敷设备 [P].

H-G·弗里茨 ;

B·沃尔 ;

M·克莱纳 ;

T·贝尔 ;

M·布贝科 ;

J·艾希霍恩 ;

U·沃尔夫 .

中国专利 :CN106470770A ,2017-03-01

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