一种氢氧化镍薄膜电极及其制备方法

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专利类型
发明
申请号
CN201010286111.5
申请日
2010-09-19
公开(公告)号
CN102005571B
公开(公告)日
2011-04-06
发明(设计)人
张正富 杨伦权 陈庆华 杨晓梅
申请人
申请人地址
650093 云南省昆明市五华区学府路253号
IPC主分类号
H01M448
IPC分类号
H01M404
代理机构
昆明正原专利商标代理有限公司 53100
代理人
金耀生
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
镍-氢氧化镍复合薄膜电极及制备方法和应用 [P]. 
陈柯宇 .
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[2]
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[3]
一种基于原位生长制备氢氧化镍‑氧化镍薄膜电极的方法 [P]. 
樊玉欠 ;
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邵光杰 .
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[4]
氢氧化镍的制备方法 [P]. 
唐红辉 ;
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[5]
制备氢氧化镍的方法 [P]. 
C·费罗 ;
G·E·贝内特 ;
A·扎伦 ;
T·希克斯 ;
M·A·费琴科 .
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[6]
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陆业大 ;
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[7]
一种氢氧化镍膜电极及其制备方法 [P]. 
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孔德帅 ;
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[8]
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[9]
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邹雪锋 ;
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[10]
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J·米西-马克特谢费尔 ;
V·斯托勒 ;
M·厄尔布 ;
S·奥尔布雷克特 ;
G·吉勒 ;
G·迈科夫斯基 ;
F·施鲁姆普夫 ;
J·施莫尔 ;
M·扬 .
中国专利 :CN100339312C ,2006-01-25