基板处理装置及反应容器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03109343.4

申请日：

2003-04-04

公开(公告)号：

CN1455434A

公开(公告)日：

2003-11-12

发明(设计)人：

绀谷忠司丰田一行佐藤武敏加贺谷徹嶋信人石丸信雄境正宪奥田和幸八木泰志渡边诚治国井泰夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

杜日新

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-02-04	授权	授权
2019-04-09	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/00 登记生效日:20190320 变更事项:专利权人变更前权利人:株式会社日立国际电气变更后权利人:株式会社国际电气变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都
2003-11-12	公开	公开

共 50 条

[1]

反应容器、反应容器处理装置及诊断装置 [P].

花房信博 ;

绪方是嗣 ;

此下龙 ;

黑木广幸 ;

佐藤里佳 ;

今川僚子 .

中国专利 :CN101151370A ,2008-03-26

[2]

反应处理容器及反应处理装置 [P].

福泽隆 .

中国专利 :CN109844091B ,2019-06-04

[3]

反应容器中的分注方法及反应容器处理装置 [P].

花房信博 ;

绪方是嗣 ;

此下龙 .

中国专利 :CN101151537A ,2008-03-26

[4]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

郑贤默 ;

姜瑨 .

韩国专利 :CN119318011A ,2025-01-14

[5]

反应容器板及反应处理方法 [P].

花房信博 ;

绪方是嗣 .

中国专利 :CN101353705A ,2009-01-28

[6]

反应容器板及反应处理方法 [P].

花房信博 ;

绪方是嗣 .

中国专利 :CN101285807A ,2008-10-15

[7]

基板清洗方法、处理容器清洗方法及基板处理装置 [P].

池田恭子 ;

土桥和也 ;

中岛常长 ;

关口贤治 ;

锦户修一 ;

中城将人 ;

安武孝洋 .

日本专利 :CN113169062B ,2024-07-19

[8]

基板清洗方法、处理容器清洗方法及基板处理装置 [P].

池田恭子 ;

土桥和也 ;

中岛常长 ;

关口贤治 ;

锦户修一 ;

中城将人 ;

安武孝洋 .

中国专利 :CN113169062A ,2021-07-23

[9]

基板处理装置、反应容器、半导体器件的制造方法以及记录介质 [P].

野野村一树 .

日本专利 :CN113519041B ,2024-04-16

[10]

基板处理装置、反应容器、半导体器件的制造方法以及记录介质 [P].

野野村一树 .

中国专利 :CN113519041A ,2021-10-19

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