曝光装置和曝光方法以及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480029466.9

申请日：

2004-10-12

公开(公告)号：

CN1864244A

公开(公告)日：

2006-11-15

发明(设计)人：

安田雅彦正田隆博金谷有步长山匡白石健一

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

曲瑞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-01-10	实质审查的生效	实质审查的生效
2020-10-02	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20041012 授权公告日:20090506 终止日期:20191012
2009-05-06	授权	授权
2006-11-15	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

正田隆博 ;

金谷有步 ;

长山匡 ;

白石健一 .

中国专利 :CN102360167B ,2012-02-22

[2]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

正田隆博 ;

金谷有步 ;

长山匡 ;

白石健一 .

中国专利 :CN101510059B ,2009-08-19

[3]

曝光方法和曝光装置、以及器件制造方法 [P].

白石健一 ;

星加隆一 ;

藤原朋春 .

中国专利 :CN101099224A ,2008-01-02

[4]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 ;

马込伸贵 .

中国专利 :CN1723539B ,2006-01-18

[5]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN106873316A ,2017-06-20

[6]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN101354540A ,2009-01-28

[7]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

水谷刚之 .

中国专利 :CN100539019C ,2007-08-15

[8]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

冈田尚也 .

中国专利 :CN101069265A ,2007-11-07

[9]

曝光方法、曝光装置以及器件制造方法 [P].

蛭川茂 .

中国专利 :CN101614966A ,2009-12-30

[10]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 ;

大和壮一 ;

西井康文 .

中国专利 :CN1754250A ,2006-03-29

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