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光刻设备和制造器件的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200610169059.9
申请日
:
2006-12-20
公开(公告)号
:
CN1987657B
公开(公告)日
:
2007-06-27
发明(设计)人
:
T·F·森杰斯
N·A·A·J·范阿斯坦
W·J·伯西
T·A·R·范恩佩尔
L·M·勒瓦斯尔
E·R·卢普斯特拉
M·J·E·H·穆特杰斯
L·奥维汉德
L·J·M·范登舒尔
M·贝克斯
R·詹森
E·范洛恩侯特
申请人
:
申请人地址
:
荷兰费尔德霍芬
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
H01L21027
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
王波波
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2009-01-07
实质审查的生效
实质审查的生效
2012-10-10
授权
授权
2007-06-27
公开
公开
共 50 条
[1]
制造器件的方法和光刻设备
[P].
H·J·M·梅杰尔
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H·J·M·梅杰尔
;
M·J·M·林肯斯
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M·J·M·林肯斯
.
中国专利
:CN101595431A
,2009-12-02
[2]
光刻设备和制造器件的方法
[P].
W·O·普里尔
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W·O·普里尔
;
E·A·F·范德帕斯奇
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E·A·F·范德帕斯奇
;
R·F·狄龙
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R·F·狄龙
;
P·D·肯肖
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P·D·肯肖
.
中国专利
:CN1503059B
,2004-06-09
[3]
光刻设备和制造器件的方法
[P].
J·A·维埃拉萨拉斯
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J·A·维埃拉萨拉斯
;
A·J·贝恩
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A·J·贝恩
;
V·M·布兰科卡巴洛
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V·M·布兰科卡巴洛
.
中国专利
:CN109716238A
,2019-05-03
[4]
光刻设备及制造器件的方法
[P].
G·纳齐博格鲁
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G·纳齐博格鲁
.
中国专利
:CN107407892B
,2017-11-28
[5]
光刻设备和制造器件的方法
[P].
J·J·M·巴塞曼斯
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J·J·M·巴塞曼斯
;
A·J·布里克
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A·J·布里克
;
P·W·H·德贾格
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P·W·H·德贾格
;
K·Z·特鲁斯特
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K·Z·特鲁斯特
.
中国专利
:CN1737688A
,2006-02-22
[6]
光刻设备和制造器件的方法
[P].
N·J·M·范德纽维拉尔
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N·J·M·范德纽维拉尔
;
V·M·布兰科卡巴洛
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V·M·布兰科卡巴洛
;
C·R·德格鲁特
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C·R·德格鲁特
;
R·H·J·屈斯泰
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R·H·J·屈斯泰
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D·M·菲利普斯
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D·M·菲利普斯
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F·A·范德桑德
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F·A·范德桑德
;
P·L·J·岗特尔
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P·L·J·岗特尔
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E·H·E·C·尤姆麦伦
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E·H·E·C·尤姆麦伦
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Y·J·G·范德维基沃尔
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Y·J·G·范德维基沃尔
;
B·D·斯霍尔滕
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B·D·斯霍尔滕
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M·武泰
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M·武泰
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R·F·科克斯
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R·F·科克斯
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J·A·维埃拉萨拉斯
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J·A·维埃拉萨拉斯
.
中国专利
:CN106716255A
,2017-05-24
[7]
光刻设备和制造器件的方法
[P].
简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特
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简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特
;
S·比林
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S·比林
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M·恩德林斯
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M·恩德林斯
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M·M·埃斯卡兰特
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M·M·埃斯卡兰特
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T·格鲁纳
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T·格鲁纳
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L·维施迈尔
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L·维施迈尔
.
中国专利
:CN106575085B
,2017-04-19
[8]
光刻设备以及使用光刻设备制造器件的方法
[P].
G·L·加托比吉奥
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G·L·加托比吉奥
;
E·H·E·C·尤梅伦
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E·H·E·C·尤梅伦
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R·奥莱斯拉格斯
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R·奥莱斯拉格斯
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G·皮特塞
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G·皮特塞
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C·M·洛普斯
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C·M·洛普斯
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L·J·A·范博克霍温
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L·J·A·范博克霍温
.
中国专利
:CN106575084A
,2017-04-19
[9]
光刻设备、控制该设备的方法和使用光刻设备制造器件的方法
[P].
D·J·M·迪莱克斯
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D·J·M·迪莱克斯
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N·R·凯姆波
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N·R·凯姆波
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D·M·H·菲利普斯
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D·M·H·菲利普斯
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M·瑞鹏
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M·瑞鹏
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C·J·G·范德顿根
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C·J·G·范德顿根
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M·A·C·斯凯皮斯
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M·A·C·斯凯皮斯
.
中国专利
:CN101923291B
,2010-12-22
[10]
光刻设备和器件制造方法
[P].
H·巴特勒
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H·巴特勒
;
M·J·沃奥尔戴尔冬克
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M·W·J·E·威吉克曼斯
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M·W·J·E·威吉克曼斯
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中国专利
:CN110268332A
,2019-09-20
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