光刻设备和制造器件的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580038295.4

申请日：

2015-07-06

公开(公告)号：

CN106575085B

公开(公告)日：

2017-04-19

发明(设计)人：

简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 S·比林 M·恩德林斯 M·M·埃斯卡兰特 T·格鲁纳 L·维施迈尔

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王静

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-19	公开	公开
2019-03-15	授权	授权
2017-08-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101738969435 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2015800382954 申请日:20150706

共 50 条

[1]

制造器件的方法和光刻设备 [P].

H·J·M·梅杰尔 ;

M·J·M·林肯斯 .

中国专利 :CN101595431A ,2009-12-02

[2]

光刻设备和制造器件的方法 [P].

W·O·普里尔 ;

E·A·F·范德帕斯奇 ;

R·F·狄龙 ;

P·D·肯肖 .

中国专利 :CN1503059B ,2004-06-09

[3]

光刻设备和制造器件的方法 [P].

J·A·维埃拉萨拉斯 ;

A·J·贝恩 ;

V·M·布兰科卡巴洛 .

中国专利 :CN109716238A ,2019-05-03

[4]

光刻设备和制造器件的方法 [P].

J·J·M·巴塞曼斯 ;

A·J·布里克 ;

P·W·H·德贾格 ;

K·Z·特鲁斯特 .

中国专利 :CN1737688A ,2006-02-22

[5]

光刻设备和制造器件的方法 [P].

T·F·森杰斯 ;

N·A·A·J·范阿斯坦 ;

W·J·伯西 ;

T·A·R·范恩佩尔 ;

L·M·勒瓦斯尔 ;

E·R·卢普斯特拉 ;

M·J·E·H·穆特杰斯 ;

L·奥维汉德 ;

L·J·M·范登舒尔 ;

M·贝克斯 ;

R·詹森 ;

E·范洛恩侯特 .

中国专利 :CN1987657B ,2007-06-27

[6]

光刻设备和制造器件的方法 [P].

N·J·M·范德纽维拉尔 ;

V·M·布兰科卡巴洛 ;

C·R·德格鲁特 ;

R·H·J·屈斯泰 ;

D·M·菲利普斯 ;

F·A·范德桑德 ;

P·L·J·岗特尔 ;

E·H·E·C·尤姆麦伦 ;

Y·J·G·范德维基沃尔 ;

B·D·斯霍尔滕 ;

M·武泰 ;

R·F·科克斯 ;

J·A·维埃拉萨拉斯 .

中国专利 :CN106716255A ,2017-05-24

[7]

光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法 [P].

R·W·L·拉法瑞 ;

M·瑞鹏 ;

R·H·M·考蒂 ;

R·J·梅杰尔斯 ;

F·伊凡吉里斯塔 .

中国专利 :CN102193328B ,2011-09-21

[8]

光刻设备及制造器件的方法 [P].

A·J·布里科 .

中国专利 :CN1501170B ,2010-04-21

[9]

光刻设备及制造器件的方法 [P].

G·纳齐博格鲁 .

中国专利 :CN107407892B ,2017-11-28

[10]

衬底保持器、光刻设备和制造器件的方法 [P].

B·J·P·罗塞特 ;

S·A·特姆普 .

中国专利 :CN111913368A ,2020-11-10

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