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光谱分析气态污染物测量装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201920712614.0
申请日
:
2019-05-17
公开(公告)号
:
CN210487576U
公开(公告)日
:
2020-05-08
发明(设计)人
:
李明魁
许颖龙
李旭
申请人
:
申请人地址
:
450018 河南省郑州市高新技术开发区长椿路11号Y06幢1单元4楼
IPC主分类号
:
G01N2101
IPC分类号
:
G01N2125
G01N3300
代理机构
:
重庆百润洪知识产权代理有限公司 50219
代理人
:
刘立春
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-05-08
授权
授权
共 50 条
[1]
基于深度学习的气态污染物傅立叶变换红外光谱分析方法
[P].
宋瑞峰
论文数:
0
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机构:
青岛崂应海纳光电环保集团有限公司
青岛崂应海纳光电环保集团有限公司
宋瑞峰
;
林云青
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机构:
青岛崂应海纳光电环保集团有限公司
青岛崂应海纳光电环保集团有限公司
林云青
;
邓春磊
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机构:
青岛崂应海纳光电环保集团有限公司
青岛崂应海纳光电环保集团有限公司
邓春磊
;
陈光成
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机构:
青岛崂应海纳光电环保集团有限公司
青岛崂应海纳光电环保集团有限公司
陈光成
;
董鑫
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机构:
青岛崂应海纳光电环保集团有限公司
青岛崂应海纳光电环保集团有限公司
董鑫
.
中国专利
:CN120490000A
,2025-08-15
[2]
一种污染物光谱分析仪
[P].
盛志高
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盛志高
;
宁国强
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宁国强
;
刘鑫宇
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刘鑫宇
.
中国专利
:CN218239805U
,2023-01-06
[3]
气态分子光谱分析辅助装置
[P].
周延怀
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周延怀
;
王兴和
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王兴和
.
中国专利
:CN2773673Y
,2006-04-19
[4]
光谱分析装置、光谱分析系统和光谱分析方法
[P].
林田纯弥
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株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
林田纯弥
;
柿下容弓
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
柿下容弓
;
服部英春
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
服部英春
;
堀入纯
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
堀入纯
.
日本专利
:CN120112781A
,2025-06-06
[5]
光谱分析用池、光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
上野楠夫
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
上野楠夫
;
村上达希
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
村上达希
;
箕轮大辉
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机构:
株式会社堀场制作所
株式会社堀场制作所
箕轮大辉
.
日本专利
:CN121057932A
,2025-12-02
[6]
光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
西村克美
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西村克美
.
中国专利
:CN107367469B
,2017-11-21
[7]
光谱分析装置和光谱分析方法
[P].
冯胜
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冯胜
.
中国专利
:CN115343227A
,2022-11-15
[8]
气态污染物微量抽取现场分析装置
[P].
韩宏峰
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韩宏峰
;
田东海
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田东海
.
中国专利
:CN2583664Y
,2003-10-29
[9]
气态污染物发生装置
[P].
刘宏奎
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刘宏奎
;
张继文
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张继文
;
曹伟
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曹伟
;
蒋铭凯
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蒋铭凯
;
王继红
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王继红
;
安俊超
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安俊超
;
孟书杰
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孟书杰
;
韩亮亮
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韩亮亮
;
王岩
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王岩
;
张卓
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张卓
;
贾素敏
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贾素敏
;
秦明霞
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秦明霞
.
中国专利
:CN207703573U
,2018-08-07
[10]
通用气体光谱分析装置及气体光谱分析系统
[P].
苑高强
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苑高强
;
刘民玉
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刘民玉
.
中国专利
:CN207850907U
,2018-09-11
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