电离室护盖

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202020240520.0

申请日：

2020-03-02

公开(公告)号：

CN211557756U

公开(公告)日：

2020-09-22

发明(设计)人：

刘吉福傅世楣焦圣华闫锋高玉兵吴广生韩献礼

申请人：

申请人地址：

101200 北京市平谷区马坊工业园区4#商业楼16层1607

IPC主分类号：

H05K503

IPC分类号：

代理机构：

北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139

代理人：

李林

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-22	授权	授权

共 50 条

[1]

张孝平 ;

丁德甲 ;

乔中涛 .

中国专利 :CN218241769U ,2023-01-06

[2]

电离室系统 [P].

吴金杰 ;

葛双 ;

王佳 .

中国专利 :CN204790008U ,2015-11-18

[3]

电离室装置 [P].

王培玮 ;

李婷 ;

吴金杰 .

中国专利 :CN206114916U ,2017-04-19

[4]

超低本底α电离室 [P].

姚顺和 ;

杨巧玲 ;

姚艳玲 ;

吕晓侠 ;

刁立军 ;

陈细林 ;

汪建清 ;

郭晓清 ;

孟军 ;

邢雨 .

中国专利 :CN204696075U ,2015-10-07

[5]

石墨圆饼电离室 [P].

王坤 ;

李涛 ;

金孙均 ;

杨小元 .

中国专利 :CN204424202U ,2015-06-24

[6]

多层空腔电离室 [P].

魏可新 ;

李景云 ;

侯金兵 ;

宋明哲 ;

王红玉 ;

高飞 .

中国专利 :CN202495420U ,2012-10-17

[7]

一种电离室 [P].

申碧凤 .

中国专利 :CN203415539U ,2014-01-29

[8]

高稳定端面电离室 [P].

王三传 ;

陈三雄 .

中国专利 :CN2684210Y ,2005-03-09

[9]

一种电离室 [P].

胡毅 ;

王日中 ;

李元桥 ;

田立朝 ;

马燕云 ;

胡朝辉 ;

刘泉旺 ;

曹嘉懿 .

中国专利 :CN207817220U ,2018-09-04

[10]

一种电离室 [P].

张从华 ;

龚岚 .

中国专利 :CN204516718U ,2015-07-29

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