一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110048105.4

申请日：

2021-01-14

公开(公告)号：

CN112731776A

公开(公告)日：

2021-04-30

发明(设计)人：

匡翠方温积森刘旭丁晨良朱大钊

申请人：

申请人地址：

310023 浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

杭州求是专利事务所有限公司 33200

代理人：

邱启旺

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-30	公开	公开
2021-05-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20210114

共 50 条

[1]

激光直写用超分辨掩膜板及其制备方法 [P].

张奎 ;

魏劲松 ;

魏涛 ;

耿永友 ;

王阳 ;

吴谊群 .

中国专利 :CN105425536A ,2016-03-23

[2]

一种无掩膜激光直写叠加曝光方法 [P].

朱鹏飞 ;

陈林森 ;

胡进 ;

浦东林 ;

袁晓峰 .

中国专利 :CN104298080B ,2015-01-21

[3]

一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置 [P].

匡翠方 ;

王洪庆 ;

王子昂 ;

杨臻垚 ;

汤孟博 ;

詹兰馨 ;

张晓依 ;

温积森 ;

刘旭 .

中国专利 :CN113960891A ,2022-01-21

[4]

一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置 [P].

匡翠方 ;

王洪庆 ;

王子昂 ;

杨臻垚 ;

汤孟博 ;

詹兰馨 ;

张晓依 ;

温积森 ;

刘旭 .

中国专利 :CN113960891B ,2024-02-09

[5]

基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统 [P].

匡翠方 ;

魏震 ;

杨顺华 ;

蒋登斌 ;

丁晨良 ;

刘旭 ;

徐良 ;

朱大钊 ;

张凌民 .

中国专利 :CN114326322B ,2024-02-13

[6]

基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统 [P].

匡翠方 ;

魏震 ;

杨顺华 ;

蒋登斌 ;

丁晨良 ;

刘旭 ;

徐良 ;

朱大钊 ;

张凌民 .

中国专利 :CN114326322A ,2022-04-12

[7]

基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像装置及方法 [P].

刘锡 ;

匡翠方 ;

马程鹏 ;

朱大钊 ;

丁晨良 ;

曹春 ;

杨顺华 ;

王洪庆 ;

罗昊 ;

温积森 ;

张智敏 ;

魏震 .

中国专利 :CN114077168B ,2022-02-22

[8]

一种激光直写装置和激光直写方法 [P].

苏晨怡 ;

杨顺华 ;

杨臻垚 ;

张嘉晨 ;

施钧辉 .

中国专利 :CN119087755B ,2025-03-25

[9]

一种激光直写装置和激光直写方法 [P].

苏晨怡 ;

杨顺华 ;

杨臻垚 ;

张嘉晨 ;

施钧辉 .

中国专利 :CN119087755A ,2024-12-06

[10]

集成化超分辨激光直写装置及直写方法 [P].

曾爱军 ;

刘铁诚 ;

胡敬佩 ;

朱玲琳 ;

黄惠杰 .

中国专利 :CN109491214B ,2019-03-19

← 1 2 3 4 5 →