磁场强度可调的溅射磁控管装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02815138.0

申请日：

2002-04-05

公开(公告)号：

CN1537318B

公开(公告)日：

2004-10-13

发明(设计)人：

W·C·S·德伯舍 J·-P·莱蒙斯 R·布洛齐 G·戈宾 A·G·J·布朗迪尔

申请人：

申请人地址：

比利时兹韦弗海姆

IPC主分类号：

H01J3734

IPC分类号：

C23C1435

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

李玲

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-04-20	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 37/34 申请日:20020405 授权公告日:20110112 终止日期:20170405
2004-12-29	实质审查的生效	实质审查的生效
2012-10-03	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101454341600 IPC(主分类):H01J 37/34 专利号:ZL028151380 变更事项:专利权人变更前权利人:SBIC卢森堡有限责任公司变更后权利人:梭莱先进镀膜股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:卢森堡变更后权利人:比利时代因泽登记生效日:20120829
2004-10-13	公开	公开
2011-01-12	授权	授权
2012-10-03	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101454340499 IPC(主分类):H01J 37/34 专利号:ZL028151380 变更事项:专利权人变更前权利人:N·V·贝卡特股份有限公司变更后权利人:SBIC卢森堡有限责任公司变更事项:地址变更前权利人:比利时兹韦弗海姆变更后权利人:卢森堡登记生效日:20120829

共 50 条

[1]

一种磁控管的磁场强度的调节方法 [P].

张伟 ;

王厚工 ;

杨玉杰 ;

郑友山 .

中国专利 :CN104651786B ,2015-05-27

[2]

磁控管溅射用磁场生成装置 [P].

栗山义彦 .

中国专利 :CN104919082A ,2015-09-16

[3]

用于磁控管溅射的磁场发生装置 [P].

栗山义彦 ;

三田正裕 .

中国专利 :CN103328683B ,2013-09-25

[4]

磁控管溅射方法以及磁控管溅射装置 [P].

太田淳 ;

田口信一郎 ;

杉浦功 ;

谷典明 ;

新井真 ;

清田淳也 .

中国专利 :CN1965101A ,2007-05-16

[5]

溅射磁控管装置 [P].

许生 ;

徐升东 ;

庄炳河 ;

郭杏元 .

中国专利 :CN101877300B ,2010-11-03

[6]

磁控管溅射装置 [P].

横山政秀 ;

早田博 .

中国专利 :CN1067118C ,1996-04-17

[7]

靶面磁场强度可调节的旋转阴极 [P].

文继志 ;

郭江涛 ;

徐和平 .

中国专利 :CN206157219U ,2017-05-10

[8]

磁场产生装置、磁控管阴极及溅射装置 [P].

孔为 ;

林子敬 ;

李明 ;

谢斌 ;

王海千 ;

姜友松 ;

长江亦周 .

中国专利 :CN102725435A ,2012-10-10

[9]

磁控管阴极和包括这种磁控管阴极的磁控管溅射装置 [P].

瑟吉·Y·纳瓦拉 ;

尤里·N·托尔马彻夫 ;

马东俊 ;

金泰完 .

中国专利 :CN1525519A ,2004-09-01

[10]

磁控管溅射电极与应用磁控管溅射电极的溅射装置 [P].

李尚浩 ;

小松孝 ;

中村肇 ;

新井真 ;

清田淳也 ;

谷典明 .

中国专利 :CN1978698B ,2007-06-13

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