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具有气体冲洗装置的光刻设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200510081753.0
申请日
:
2005-05-24
公开(公告)号
:
CN1725110A
公开(公告)日
:
2006-01-25
发明(设计)人
:
M·贝克斯
R·J·胡特曼斯
N·坦卡特
N·R·科珀
N·F·科佩拉亚斯
J·-M·肖特斯曼
R·范德哈姆
J·A·M·M·范尤特雷格特
申请人
:
申请人地址
:
荷兰维尔德霍芬
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司
代理人
:
原绍辉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2007-03-21
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-01-25
公开
公开
2009-09-16
授权
授权
共 50 条
[1]
一种具有气浴装置的光刻设备
[P].
张琦
论文数:
0
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机构:
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
张琦
;
李志
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机构:
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
李志
;
胡嘉鑫
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机构:
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
胡嘉鑫
;
史月林
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机构:
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
史月林
;
庄亚政
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机构:
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
庄亚政
;
李波
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机构:
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
李波
;
李凌瞳
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机构:
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
李凌瞳
;
张雷
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机构:
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
张雷
.
中国专利
:CN223566029U
,2025-11-18
[2]
具有气味抽取的冲洗装置
[P].
罗尔夫·科莎瑞恩
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罗尔夫·科莎瑞恩
.
中国专利
:CN103882928B
,2014-06-25
[3]
光刻设备、图案形成装置和光刻方法
[P].
P·W·H·德贾格
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P·W·H·德贾格
;
R·A·J·范德韦尔
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R·A·J·范德韦尔
.
中国专利
:CN105659165A
,2016-06-08
[4]
气体冲洗元件及附属的气体冲洗装置
[P].
埃瓦尔德·舒马赫
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埃瓦尔德·舒马赫
;
V·克奇罗波宁
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V·克奇罗波宁
;
埃德加·舒马赫
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埃德加·舒马赫
;
H·布伦纳
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H·布伦纳
;
O·米特勒纳
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O·米特勒纳
;
V·图罗夫斯基
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V·图罗夫斯基
.
中国专利
:CN1784500A
,2006-06-07
[5]
气体冲洗装置以及气体冲洗方法
[P].
魏孟良
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魏孟良
;
周孙甫
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周孙甫
.
中国专利
:CN114378047A
,2022-04-22
[6]
用于光刻设备的冲洗系统和方法
[P].
E·A·T·范登阿科
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
E·A·T·范登阿科
;
J·F·丹嫩贝格
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
J·F·丹嫩贝格
;
M·W·林索斯特
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
M·W·林索斯特
;
I·M·卡尔曼
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
I·M·卡尔曼
;
S·A·哈扎里
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
S·A·哈扎里
.
:CN120457386A
,2025-08-08
[7]
具有倾斜的缝隙状通道的气体冲洗装置
[P].
J·库尔曼
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J·库尔曼
;
W·舍恩韦尔斯基
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W·舍恩韦尔斯基
;
K·G·鲁维尔
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K·G·鲁维尔
;
W·里特尔
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W·里特尔
.
中国专利
:CN100360260C
,2006-07-26
[8]
光刻设备及装置制造方法
[P].
A·E·A·库伦
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A·E·A·库伦
;
E·W·M·克诺斯
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E·W·M·克诺斯
;
M·莫
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M·莫
.
中国专利
:CN1542552A
,2004-11-03
[9]
致动光刻设备的致动单元的控制装置、具有控制装置的光刻设备及操作控制装置的方法
[P].
S.克朗
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S.克朗
;
L.伯杰
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L.伯杰
;
R.基塞尔
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R.基塞尔
;
P.威杰拉尔斯
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P.威杰拉尔斯
.
中国专利
:CN110291463A
,2019-09-27
[10]
具有主动阻尼组件的光刻设备
[P].
H·巴特勒
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H·巴特勒
;
E·R·鲁普斯卓
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E·R·鲁普斯卓
;
M·W·M·范德维基斯特
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M·W·M·范德维基斯特
;
J·德皮
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J·德皮
;
C·A·L·德霍恩
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C·A·L·德霍恩
;
S·布斯克尔
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S·布斯克尔
.
中国专利
:CN101446771B
,2009-06-03
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