一种具有气浴装置的光刻设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202423178775.6

申请日：

2024-12-23

公开(公告)号：

CN223566029U

公开(公告)日：

2025-11-18

发明(设计)人：

张琦李志胡嘉鑫史月林庄亚政李波李凌瞳张雷

申请人：

源卓微纳科技（苏州）股份有限公司

申请人地址：

215000 江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-18	授权	授权

共 50 条

[1]

具有气体冲洗装置的光刻设备 [P].

M·贝克斯 ;

R·J·胡特曼斯 ;

N·坦卡特 ;

N·R·科珀 ;

N·F·科佩拉亚斯 ;

J·－M·肖特斯曼 ;

R·范德哈姆 ;

J·A·M·M·范尤特雷格特 .

中国专利 :CN1725110A ,2006-01-25

[2]

光刻设备、气浴装置及其气浴发生器 [P].

王魁波 ;

吴晓斌 ;

韩晓泉 ;

罗艳 ;

沙鹏飞 ;

李慧 ;

孙家政 ;

谢婉露 ;

马赫 ;

谭芳蕊 .

中国专利 :CN114460814A ,2022-05-10

[3]

光刻设备、气浴装置及其气浴发生器 [P].

王魁波 ;

吴晓斌 ;

韩晓泉 ;

罗艳 ;

沙鹏飞 ;

李慧 ;

孙家政 ;

谢婉露 ;

马赫 ;

谭芳蕊 .

中国专利 :CN114460814B ,2024-04-02

[4]

气浴模块、气浴装置、光刻设备及其控制方法 [P].

王魁波 ;

吴晓斌 ;

罗艳 ;

沙鹏飞 ;

韩晓泉 ;

谢婉露 ;

李慧 ;

谭芳蕊 .

中国专利 :CN117631472A ,2024-03-01

[5]

气浴装置及光刻设备 [P].

刘伟 .

中国专利 :CN112305866A ,2021-02-02

[6]

一种具有断电保护装置的光刻设备 [P].

吕帅 ;

徐顺达 ;

王冠楠 ;

朱鹏飞 .

中国专利 :CN212160348U ,2020-12-15

[7]

一种光刻设备的涂胶装置 [P].

葛文志 .

中国专利 :CN221208685U ,2024-06-25

[8]

一种光刻设备的涂胶装置 [P].

刘健 .

中国专利 :CN215141658U ,2021-12-14

[9]

一种光刻设备的涂胶装置 [P].

张海明 ;

杨红 .

中国专利 :CN207623680U ,2018-07-17

[10]

气浴腔结构、气浴装置及光刻设备 [P].

戴思雨 ;

赵建军 .

中国专利 :CN110658682A ,2020-01-07

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