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狭缝喷嘴、狭缝喷嘴的调整方法及基板处理装置
被引：0
申请号：
CN202210513193.5
申请日：
2022-05-12
公开(公告)号：
CN115518828A
公开(公告)日：
2022-12-27
发明(设计)人：
安陪裕滋
申请人：
申请人地址：
日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1
IPC主分类号：
B05C502
IPC分类号：
B05C1302
代理机构：
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人：
余娜;刘芳
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-12-27 | 公开 | 公开 |