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静电卡盘的制造方法、静电卡盘以及基板处理装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110202917.X
申请日：
2021-02-23
公开(公告)号：
CN113345828A
公开(公告)日：
2021-09-03
发明(设计)人：
高山将步
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21683
IPC分类号：
H01L2167
B28B1104
B28B1100
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;张会华
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-09-03 | 公开 | 公开 |
| 2022-12-20 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/683 申请日:20210223 |