用分子印迹聚合物分离盐酸克伦特罗的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010122635.0

申请日：

2008-12-25

公开(公告)号：

CN101792395A

公开(公告)日：

2010-08-04

发明(设计)人：

张大兵郑素连武爱波

申请人：

申请人地址：

200240 上海市闵行区东川路800号

IPC主分类号：

C07C21568

IPC分类号：

C07C21310 B01D1508

代理机构：

上海交达专利事务所 31201

代理人：

王锡麟;王桂忠

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-03-27	授权	授权
2020-12-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C07C 215/68 申请日:20081225 授权公告日:20130327 终止日期:20191225
2010-08-04	公开	公开
2010-09-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101006070888 IPC(主分类):C07C 215/68 专利申请号:2010101226350 申请日:20081225

共 50 条

[1]

分子印迹聚合物的制备及用其分离盐酸克伦特罗的方法 [P].

张大兵 ;

郑素连 ;

武爱波 .

中国专利 :CN101434679A ,2009-05-20

[2]

盐酸克伦特罗分子印迹聚合物及其制备方法 [P].

李建平 ;

张兰 ;

李健 ;

张连明 ;

罗磊 ;

周素莲 ;

黄肇敏 .

中国专利 :CN104945552A ,2015-09-30

[3]

一种盐酸克伦特罗分子印迹聚合物微球的制备方法 [P].

麦裕良 ;

赵向云 ;

户华文 ;

黄淋佳 .

中国专利 :CN110684143A ,2020-01-14

[4]

一种盐酸克伦特罗分子印迹聚合物仿生抗体的制备方法 [P].

汤轶伟 ;

兰建兴 ;

高雪 ;

于志鹏 ;

刘秀英 ;

励建荣 ;

张德福 ;

吕长鑫 .

中国专利 :CN104558387B ,2015-04-29

[5]

红霉素分子印迹聚合物的制备方法 [P].

张大兵 ;

武爱波 ;

宋素泉 .

中国专利 :CN101143910A ,2008-03-19

[6]

一种福多司坦分子印迹聚合物的制备方法 [P].

刘冬青 ;

颜范勇 ;

董娇娇 ;

代林枫 ;

李爱梅 .

中国专利 :CN102060958A ,2011-05-18

[7]

一种分子印迹聚合物的制备方法 [P].

孙姝琦 ;

张颖 ;

姚青 ;

王红 .

中国专利 :CN104558408A ,2015-04-29

[8]

可用于水环境的四环素分子印迹聚合物的制备方法 [P].

张大兵 ;

瞿国润 ;

武爱波 .

中国专利 :CN101402706B ,2009-04-08

[9]

能识别土霉素和恩诺沙星的分子印迹聚合物的制备方法 [P].

张大兵 ;

瞿国润 ;

武爱波 .

中国专利 :CN101397355A ,2009-04-01

[10]

一种芹菜素分子印迹聚合物的制备方法 [P].

贺敏强 ;

郭利飞 ;

陈永强 ;

宋承成 ;

万金城 .

中国专利 :CN101665551B ,2010-03-10

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