分子印迹聚合物的制备及用其分离盐酸克伦特罗的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810207771.2

申请日：

2008-12-25

公开(公告)号：

CN101434679A

公开(公告)日：

2009-05-20

发明(设计)人：

张大兵郑素连武爱波

申请人：

申请人地址：

200240上海市闵行区东川路800号

IPC主分类号：

C08F22214

IPC分类号：

C08F200 C08J926 C08L3502 B01J2026 B01J2030 C07C21152 C07C20986

代理机构：

上海交达专利事务所

代理人：

王锡麟;王桂忠

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-05-20	公开	公开
2011-03-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101077490014 IPC(主分类):C08F 222/14 专利申请号:2008102077712 公开日:20090520
2009-07-15	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

用分子印迹聚合物分离盐酸克伦特罗的方法 [P].

张大兵 ;

郑素连 ;

武爱波 .

中国专利 :CN101792395A ,2010-08-04

[2]

盐酸克伦特罗分子印迹聚合物及其制备方法 [P].

李建平 ;

张兰 ;

李健 ;

张连明 ;

罗磊 ;

周素莲 ;

黄肇敏 .

中国专利 :CN104945552A ,2015-09-30

[3]

一种盐酸克伦特罗分子印迹聚合物微球的制备方法 [P].

麦裕良 ;

赵向云 ;

户华文 ;

黄淋佳 .

中国专利 :CN110684143A ,2020-01-14

[4]

红霉素分子印迹聚合物的制备方法 [P].

张大兵 ;

武爱波 ;

宋素泉 .

中国专利 :CN101143910A ,2008-03-19

[5]

一种盐酸克伦特罗分子印迹聚合物仿生抗体的制备方法 [P].

汤轶伟 ;

兰建兴 ;

高雪 ;

于志鹏 ;

刘秀英 ;

励建荣 ;

张德福 ;

吕长鑫 .

中国专利 :CN104558387B ,2015-04-29

[6]

一种分子印迹聚合物的制备方法 [P].

孙姝琦 ;

张颖 ;

姚青 ;

王红 .

中国专利 :CN104558408A ,2015-04-29

[7]

一种福多司坦分子印迹聚合物的制备方法 [P].

刘冬青 ;

颜范勇 ;

董娇娇 ;

代林枫 ;

李爱梅 .

中国专利 :CN102060958A ,2011-05-18

[8]

大黄素素分子印迹聚合物的制备及应用 [P].

李红霞 ;

马玉哲 ;

张俊杰 ;

骆玉涵 .

中国专利 :CN101712731A ,2010-05-26

[9]

可用于水环境的四环素分子印迹聚合物的制备方法 [P].

张大兵 ;

瞿国润 ;

武爱波 .

中国专利 :CN101402706B ,2009-04-08

[10]

能识别土霉素和恩诺沙星的分子印迹聚合物的制备方法 [P].

张大兵 ;

瞿国润 ;

武爱波 .

中国专利 :CN101397355A ,2009-04-01

← 1 2 3 4 5 →