制造印章印面的曝光装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN99254195.6

申请日：

1999-11-18

公开(公告)号：

CN2396416Y

公开(公告)日：

2000-09-13

发明(设计)人：

施旭升

申请人：

申请人地址：

中国台湾

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中国商标专利事务所

代理人：

万学堂

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2000-09-13	授权	授权
2006-01-11	专利权的终止未缴年费专利权终止	专利权的终止未缴年费专利权终止

共 50 条

[1]

印章印面的曝光装置 [P].

施旭昇 .

中国专利 :CN2463175Y ,2001-12-05

[2]

印章印文采集器及印章印文鉴别系统 [P].

李阳 ;

王炜 ;

杨洋 .

中国专利 :CN209328050U ,2019-08-30

[3]

曝光装置、曝光方法、物品制造方法 [P].

山口直树 ;

杉浦聪 .

日本专利 :CN119335818A ,2025-01-21

[4]

曝光装置、曝光方法以及装置制造方法 [P].

竹中务 ;

三岛和彦 .

中国专利 :CN104516213B ,2015-04-15

[5]

带影象曝光装置的印相机 [P].

山田纯司 .

中国专利 :CN1085846C ,1996-01-24

[6]

具有投影曝光装置的印相机 [P].

谷端透 ;

石川正纯 .

中国专利 :CN1108394A ,1995-09-13

[7]

曝光装置和用于制造曝光装置的方法 [P].

盐田聪 ;

安永真 ;

增浏贞夫 ;

岩子彰展 ;

横山正史 .

中国专利 :CN1684836A ,2005-10-19

[8]

液浸曝光装置及其制造方法、曝光装置、器件制造方法 [P].

马込伸贵 ;

小林直行 ;

榊原康之 ;

高岩宏明 .

中国专利 :CN102323724B ,2012-01-18

[9]

图案曝光装置、器件制造方法及曝光装置 [P].

加藤正纪 ;

水野恭志 ;

中岛利治 ;

川户聪 .

日本专利 :CN117616338A ,2024-02-27

[10]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

水谷刚之 .

中国专利 :CN100539019C ,2007-08-15

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