半导体晶片的清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01129398.5

申请日：

2001-06-15

公开(公告)号：

CN1338771A

公开(公告)日：

2002-03-06

发明(设计)人：

陈中泰

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹科学工业园区力行路16号

IPC主分类号：

H01L21306

IPC分类号：

H01L21304 B08B304

代理机构：

北京集佳专利商标事务所

代理人：

王学强

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-11-05	实质审查的生效	实质审查的生效
2005-08-10	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2002-03-06	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体晶片的清洗方法 [P].

陈中泰 .

中国专利 :CN1198323C ,2003-01-29

[2]

清洗半导体晶片的方法和装置 [P].

M·G·维林 ;

L·张 .

中国专利 :CN1341276A ,2002-03-20

[3]

半导体晶片的清洗方法 [P].

金志民 .

中国专利 :CN108511316A ,2018-09-07

[4]

半导体晶片的清洗液及清洗方法 [P].

汪钉崇 ;

洪明杰 .

中国专利 :CN1242039C ,2005-04-06

[5]

半导体晶片的清洗方法 [P].

颜进甫 ;

陈崇智 ;

陈东强 .

中国专利 :CN100362629C ,2006-11-15

[6]

半导体晶片清洗方法 [P].

陈灵 .

中国专利 :CN104124136A ,2014-10-29

[7]

半导体晶片的清洗方法与系统 [P].

卡特林纳·A·米可哈林奇 ;

麦克·拉夫金 ;

唐·E·安德森 .

中国专利 :CN1355929A ,2002-06-26

[8]

磷化铟晶片清洗方法及半导体晶片清洗装置 [P].

王金灵 ;

周铁军 ;

田玉莲 ;

毕宏岩 .

中国专利 :CN117380617A ,2024-01-12

[9]

半导体晶片的清洗装置以及半导体晶片的清洗方法 [P].

野田魁人 ;

大久保知洋 ;

中尾勇贵 ;

富田迪彦 .

中国专利 :CN114902379A ,2022-08-12

[10]

半导体晶片的清洗方法 [P].

宫田毅 ;

三由裕一 ;

波冈义哲 .

中国专利 :CN1638058A ,2005-07-13

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