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用于有机半导体器件的二酮基吡咯并吡咯聚合物
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201280059932.2
申请日
:
2012-12-03
公开(公告)号
:
CN103975454A
公开(公告)日
:
2014-08-06
发明(设计)人
:
P·哈约兹
P·比雅尔
申请人
:
申请人地址
:
德国路德维希港
IPC主分类号
:
H01L5100
IPC分类号
:
代理机构
:
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
:
张双双;林柏楠
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-01-07
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101594325194 IPC(主分类):H01L 51/00 专利申请号:2012800599322 申请日:20121203
2014-08-06
公开
公开
2018-02-09
授权
授权
共 50 条
[1]
用于有机半导体器件的二酮吡咯并吡咯聚合物
[P].
M·迪格利
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M·迪格利
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M·扎赫埃特伊施
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M·扎赫埃特伊施
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P·哈约兹
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P·哈约兹
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O·F·埃比谢尔
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O·F·埃比谢尔
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M·丰罗多纳图龙
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M·丰罗多纳图龙
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M·G·R·特比兹
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M·G·R·特比兹
.
中国专利
:CN102203160A
,2011-09-28
[2]
用于有机半导体器件的二酮基吡咯并吡咯聚合物
[P].
P·哈约兹
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P·哈约兹
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M·迪格利
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M·迪格利
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N·舍博塔莱瓦
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N·舍博塔莱瓦
;
O·F·埃比谢尔
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O·F·埃比谢尔
.
中国专利
:CN102892807A
,2013-01-23
[3]
用于有机半导体器件中的二酮基吡咯并吡咯聚合物
[P].
M·古吉利
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M·古吉利
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O·F·埃比谢尔
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O·F·埃比谢尔
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P·哈约兹
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P·哈约兹
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M·丰罗多纳图龙
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M·丰罗多纳图龙
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M·G·R·特比兹
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M·G·R·特比兹
;
J-C·弗洛里斯
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J-C·弗洛里斯
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H·J·吉尔尼尔
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H·J·吉尔尼尔
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P·穆尔
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P·穆尔
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N·舍博塔莱瓦
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N·舍博塔莱瓦
;
T·沙福尔
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T·沙福尔
.
中国专利
:CN102449030A
,2012-05-09
[4]
用于有机半导体器件的二酮吡咯并吡咯聚合物
[P].
P·哈约兹
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P·哈约兹
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O·F·埃比谢尔
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M·迪格利
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M·迪格利
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H·J·吉尔尼尔
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H·J·吉尔尼尔
;
M·丰罗多纳图龙
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M·丰罗多纳图龙
.
中国专利
:CN102362314B
,2012-02-22
[5]
用于有机半导体器件的二酮基吡咯并吡咯低聚物
[P].
P·哈约兹
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P·哈约兹
;
N·舍博塔莱瓦
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N·舍博塔莱瓦
.
中国专利
:CN103619855A
,2014-03-05
[6]
作为有机半导体的二酮基吡咯并吡咯聚合物
[P].
M·G·R·特比茨
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M·G·R·特比茨
;
R·A·J·詹森
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R·A·J·詹森
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M·M·韦因克
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M·M·韦因克
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H·J·柯纳
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H·J·柯纳
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M·杜格利
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M·杜格利
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B·蒂克
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B·蒂克
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Y·朱
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Y·朱
.
中国专利
:CN101479272B
,2009-07-08
[7]
基于稠合二酮基吡咯并吡咯的聚合物
[P].
P·哈约兹
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P·哈约兹
;
M·格里兹波斯基
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M·格里兹波斯基
;
D·T·格里科
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D·T·格里科
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A·杰泽斯基
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A·杰泽斯基
.
中国专利
:CN105324441A
,2016-02-10
[8]
二酮基吡咯并吡咯聚合物和小分子
[P].
P·哈约兹
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P·哈约兹
.
中国专利
:CN104334610A
,2015-02-04
[9]
二酮基吡咯并吡咯低聚物和包含二酮基吡咯并吡咯低聚物的组合物
[P].
P·哈约兹
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P·哈约兹
;
N·舍博塔莱瓦
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N·舍博塔莱瓦
;
Y·H·吉尔茨
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Y·H·吉尔茨
;
S·斯塔斯
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S·斯塔斯
;
J-Y·巴朗迪尔
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J-Y·巴朗迪尔
.
中国专利
:CN104094435B
,2014-10-08
[10]
基于二酮基吡咯并吡咯的半导体
[P].
F·维特内尔
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F·维特内尔
;
S-L·苏拉鲁
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S-L·苏拉鲁
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P·哈约兹
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P·哈约兹
.
中国专利
:CN103140492B
,2013-06-05
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