等离子体聚合的聚合物涂层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180010785.5

申请日：

2011-02-21

公开(公告)号：

CN102791779A

公开(公告)日：

2012-11-21

发明(设计)人：

蒂莫西·冯韦尔讷罗德尼·爱德华·史密斯马克·罗布森·汉弗莱斯

申请人：

申请人地址：

英国伦敦

IPC主分类号：

C08J718

IPC分类号：

H05K328

代理机构：

北京安信方达知识产权代理有限公司 11262

代理人：

杨洲;郑霞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-11-21	公开	公开
2013-03-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101425723359 IPC(主分类):C08J 7/18 专利申请号:2011800107855 申请日:20110221
2017-03-15	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101748496562 IPC(主分类):C08J 7/18 专利申请号:2011800107855 申请公布日:20121121

共 50 条

[1]

等离子体聚合的聚合物涂层 [P].

蒂莫西·冯韦尔讷 ;

罗德尼·爱德华·史密斯 ;

马克·罗布森·汉弗莱斯 .

中国专利 :CN106916331A ,2017-07-04

[2]

用于制造等离子体聚合物涂层的大气压等离子体方法 [P].

C·瑞谷拉 ;

J·伊德 ;

R·威尔肯 ;

J·德根哈特 ;

A·克诺斯佩 ;

S·S·阿萨德 ;

C·布斯克 .

中国专利 :CN110366454A ,2019-10-22

[3]

通过等离子体聚合制备涂层 [P].

罗布·肖特 ;

贾森·惠特尔 ;

亚历克斯G·沙尔德 ;

戴维·巴顿 .

中国专利 :CN100400183C ,2005-07-20

[4]

用于以聚合物涂覆基底的等离子体聚合方法 [P].

M·塞尔库 ;

S·卢利迪 .

中国专利 :CN113286667A ,2021-08-20

[5]

经等离子体处理的聚合物膜 [P].

伊哈卜·尼扎尔·乌达 ;

邵磊 .

中国专利 :CN106102885A ,2016-11-09

[6]

等离子体聚合的聚合物电解膜的制备方法和等离子聚合涂覆的聚吡咯膜 [P].

约尔格·米勒 ;

劳伦特·迈克斯 .

中国专利 :CN1610984A ,2005-04-27

[7]

等离子体聚合物纳米颗粒携带剂 [P].

S·G·维斯 ;

M·寇里亚多斯桑托斯 ;

R·P·谭 ;

J·C·洪 .

中国专利 :CN113905765A ,2022-01-07

[8]

紫外和等离子体处理的聚合物膜 [P].

伊哈卜·尼扎尔·乌达 ;

邵磊 ;

卡琳娜·K·科佩茨 .

中国专利 :CN105764602A ,2016-07-13

[9]

吸水聚合物结构体的等离子体改性 [P].

米尔科·瓦尔登 ;

克里斯托弗·卢瓦克 ;

于尔格·埃尔温·朗 ;

马切伊·奥列克 ;

哈拉尔德·施密特 .

中国专利 :CN102482441A ,2012-05-30

[10]

等离子体聚合设备 [P].

S·G·维斯 ;

M·A·寇里亚多斯桑托斯 .

中国专利 :CN112752608B ,2021-05-04

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