用于以聚合物涂覆基底的等离子体聚合方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080008122.9

申请日：

2020-01-08

公开(公告)号：

CN113286667A

公开(公告)日：

2021-08-20

发明(设计)人：

M·塞尔库 S·卢利迪

申请人：

申请人地址：

比利时奥德纳尔德

IPC主分类号：

B05D314

IPC分类号：

B05D508 B05D700 B05D100

代理机构：

重庆智鹰律师事务所 50274

代理人：

唐超尘

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-20	公开	公开
2021-11-19	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B05D 3/14 申请日:20200108

共 50 条

[1]

等离子体聚合的聚合物涂层 [P].

蒂莫西·冯韦尔讷 ;

罗德尼·爱德华·史密斯 ;

马克·罗布森·汉弗莱斯 .

中国专利 :CN102791779A ,2012-11-21

[2]

等离子体聚合的聚合物涂层 [P].

蒂莫西·冯韦尔讷 ;

罗德尼·爱德华·史密斯 ;

马克·罗布森·汉弗莱斯 .

中国专利 :CN106916331A ,2017-07-04

[3]

等离子体聚合的聚合物电解膜的制备方法和等离子聚合涂覆的聚吡咯膜 [P].

约尔格·米勒 ;

劳伦特·迈克斯 .

中国专利 :CN1610984A ,2005-04-27

[4]

用于制造等离子体聚合物涂层的大气压等离子体方法 [P].

C·瑞谷拉 ;

J·伊德 ;

R·威尔肯 ;

J·德根哈特 ;

A·克诺斯佩 ;

S·S·阿萨德 ;

C·布斯克 .

中国专利 :CN110366454A ,2019-10-22

[5]

制造用于捕获癌细胞的聚合物涂覆基底的方法 [P].

皆川康久 ;

田中贤 ;

穴田贵久 ;

山本安希 ;

新道弘规 ;

朴志秀 ;

宇治川数马 .

日本专利 :CN119100610A ,2024-12-10

[6]

经等离子体处理的聚合物膜 [P].

伊哈卜·尼扎尔·乌达 ;

邵磊 .

中国专利 :CN106102885A ,2016-11-09

[7]

改进的聚合物－硫－聚合物涂覆的肥料 [P].

J·H·迪特里克 ;

G·L·哈格洛夫 .

中国专利 :CN1281837A ,2001-01-31

[8]

采用等离子体聚合预处理对物件的金属涂覆 [P].

思文·歌德 ;

比约恩·阿特霍夫 ;

卡尔-贡纳·拉尔森 .

中国专利 :CN103328686A ,2013-09-25

[9]

用于等离子体引发聚合物材料表面接枝聚合改性的装置 [P].

叶远松 ;

张燕杰 ;

郭舒隽 ;

薛涵与 ;

林棋 ;

黄健 .

中国专利 :CN111548522A ,2020-08-18

[10]

使用等离子体CVD形成碳聚合物膜的方法 [P].

森贞佳纪 ;

松木信雄 ;

K·K·戈恩达尔 .

中国专利 :CN101386973A ,2009-03-18

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