对称等离子体处理室

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210548832.8

申请日：

2012-10-08

公开(公告)号：

CN103094044A

公开(公告)日：

2013-05-08

发明(设计)人：

詹姆斯·D·卡达希哈密迪·塔瓦索里阿吉特·巴拉克利斯纳陈智刚安德鲁·源道格拉斯·A·小布什伯格卡尔蒂克·贾亚拉曼沙希德·劳夫肯尼思·S·柯林斯

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258

代理人：

柳春雷

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-05-08	公开	公开
2018-11-02	授权	授权
2014-11-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101588113578 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2012105488328 申请日:20121008

共 50 条

[1]

对称等离子体处理室 [P].

詹姆斯·D·卡达希 ;

哈密迪·塔瓦索里 ;

阿吉特·巴拉克利斯纳 ;

陈智刚 ;

安德鲁·源 ;

道格拉斯·A·小布什伯格 ;

卡尔蒂克·贾亚拉曼 ;

沙希德·劳夫 ;

肯尼思·S·柯林斯 .

中国专利 :CN103050363A ,2013-04-17

[2]

对称等离子体处理室 [P].

詹姆斯·D·卡达希 ;

哈密迪·塔瓦索里 ;

阿吉特·巴拉克利斯纳 ;

陈智刚 ;

安德鲁·源 ;

道格拉斯·A·小布什伯格 ;

卡尔蒂克·贾亚拉曼 ;

沙希德·劳夫 ;

肯尼思·S·柯林斯 .

中国专利 :CN103050362A ,2013-04-17

[3]

对称等离子体处理室 [P].

詹姆斯·D·卡达希 ;

哈密迪·塔瓦索里 ;

阿吉特·巴拉克利斯纳 ;

陈智刚 ;

安德鲁·源 ;

道格拉斯·A·小布什伯格 ;

卡尔蒂克·贾亚拉曼 ;

沙希德·劳夫 ;

肯尼思·S·柯林斯 .

中国专利 :CN107516627A ,2017-12-26

[4]

对称等离子体处理室 [P].

詹姆斯·D·卡达希 ;

哈密迪·塔瓦索里 ;

阿吉特·巴拉克利斯纳 ;

陈智刚 ;

安德鲁·源 ;

道格拉斯·A·小布什伯格 ;

卡尔蒂克·贾亚拉曼 ;

沙希德·劳夫 ;

肯尼思·S·柯林斯 .

中国专利 :CN103035469B ,2013-04-10

[5]

对称等离子体处理室 [P].

詹姆斯·D·卡达希 ;

哈密迪·塔瓦索里 ;

阿吉特·巴拉克利斯纳 ;

陈智刚 ;

安德鲁·源 ;

道格拉斯·A·小布什伯格 ;

卡尔蒂克·贾亚拉曼 ;

沙希德·劳夫 ;

肯尼思·S·柯林斯 .

中国专利 :CN103094045A ,2013-05-08

[6]

等离子体处理室 [P].

辻本宏 .

中国专利 :CN100440427C ,2007-04-04

[7]

等离子体处理室 [P].

许临 ;

托马斯·R·史蒂文森 ;

格雷森·福特 ;

萨蒂什·斯里尼瓦桑 .

中国专利 :CN112805805A ,2021-05-14

[8]

用于等离子体处理腔室的等离子体屏 [P].

M·T·尼科尔斯 ;

I·尤瑟夫 ;

J·A·奥马利三世 ;

R·丁德萨 ;

S·E·巴巴扬 .

中国专利 :CN109643630A ,2019-04-16

[9]

等离子体处理腔室及用于等离子体处理腔室的环 [P].

艾伦·L·丹布拉 ;

舍什拉伊·L·图尔什巴瓦勒 .

中国专利 :CN208908212U ,2019-05-28

[10]

等离子体处理腔室及用于等离子体处理腔室的环 [P].

艾伦·L·丹布拉 ;

舍什拉伊·L·图尔什巴瓦勒 .

中国专利 :CN207637742U ,2018-07-20

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